[發(fā)明專利]一種轉(zhuǎn)印裝置、轉(zhuǎn)印裝置的制作方法和轉(zhuǎn)印方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910319730.0
• 申請日: 2019-04-19
• 公開（公告）號: CN109927403B
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 田文亞;郭恩卿;郭雙
• 申請（專利權(quán)）人: 成都辰顯光電有限公司
• 主分類號: B41F16/00
• 分類號: B41F16/00;B41F33/16;B41M5/382
• 代理公司: 北京遠(yuǎn)智匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659
• 代理人: 范坤坤

本發(fā)明公開了一種轉(zhuǎn)印裝置、轉(zhuǎn)印裝置的制作方法和轉(zhuǎn)印方法。轉(zhuǎn)印裝置包括測試電極、測試電路和吸附單元。測試電極與測試電路電連接，測試電路用于對測試電極接觸的微元件進(jìn)行測試，吸附單元用于吸附測試合格的微元件。在轉(zhuǎn)印過程中，控制測試電極與微元件接觸電連接，為微元件提供測試信號。微元件在測試信號的作用下進(jìn)行測試。當(dāng)微元件測試合格后，吸附單元吸附測試合格的微元件進(jìn)行轉(zhuǎn)印，從而實(shí)現(xiàn)了在轉(zhuǎn)印之前進(jìn)行測試，并在轉(zhuǎn)印過程中選擇測試合格的微元件進(jìn)行轉(zhuǎn)印，提高了轉(zhuǎn)印后的微元件的良率，并且在一次轉(zhuǎn)印周期內(nèi)可以完成巨量的轉(zhuǎn)印，提高轉(zhuǎn)印效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明實(shí)施例涉及轉(zhuǎn)印技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種轉(zhuǎn)印裝置、轉(zhuǎn)印裝置的制作方法和轉(zhuǎn)印方法。

背景技術(shù)

微發(fā)光二極管(Light Emitting Diode，LED)顯示器相比有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)顯示器具有材料穩(wěn)定性更好、壽命更長、無影像烙印等優(yōu)點(diǎn)，被認(rèn)為是OLED顯示器的最大競爭對手。但微LED的發(fā)展受到微轉(zhuǎn)印過程中微元件的良率低的限制。在轉(zhuǎn)印過程中，微LED的尺寸極小，數(shù)量巨大。如果不能鑒別微元件性能的優(yōu)劣，會使轉(zhuǎn)印之后的微元件良率比較低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種轉(zhuǎn)印裝置、轉(zhuǎn)印裝置的制作方法和轉(zhuǎn)印方法，以實(shí)現(xiàn)選擇性轉(zhuǎn)印，提高轉(zhuǎn)印后的微元件的良率。

第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種轉(zhuǎn)印裝置，包括：

測試電極和測試電路；所述測試電極與所述測試電路電連接；所述測試電路用于對所述測試電極接觸的微元件進(jìn)行測試；

吸附單元；所述吸附單元用于吸附測試合格的微元件。

可選地，所述吸附單元包括多個電磁線圈和與所述多個電磁線圈一一對應(yīng)的第一開關(guān)；所述第一開關(guān)設(shè)置于對應(yīng)的所述電磁線圈的供電回路上；

所述吸附單元還包括第一電源線和第二電源線；所述電磁線圈包括第一端和第二端；所述電磁線圈的第一端與對應(yīng)的所述第一開關(guān)的一端電連接，所述電磁線圈的第二端與所述第一電源線電連接；所述第一開關(guān)的另一端與所述第二電源線電連接。

可選地，所述測試電路包括測試開關(guān)和測試信號采集模塊，所述測試電極包括第一電極和第二電極；所述第一電極與所述第一電源線電連接；所述第二電極與所述測試開關(guān)的一端電連接，所述測試開關(guān)的另一端與所述第二電源線電連接；所述測試信號采集模塊用于采集所述微元件的測試信號。

可選地，轉(zhuǎn)印裝置還包括基底，所述基底包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面；

所述基底的第一表面上還設(shè)置有圖案化的第一導(dǎo)電層；所述第一導(dǎo)電層構(gòu)成所述電磁線圈；

在所述基底的第二表面上還設(shè)置有圖案化的開關(guān)電路層，所述開關(guān)電路層構(gòu)成所述第一開關(guān)和所述測試開關(guān)。

可選地，所述基底的第一表面還設(shè)置有圖案化的第二導(dǎo)電層，所述第二導(dǎo)電層構(gòu)成所述第一電極和所述第二電極；所述第二導(dǎo)電層的厚度大于所述第一導(dǎo)電層的厚度。

可選地，轉(zhuǎn)印裝置還包括緩沖層；所述緩沖層位于所述基底的第一表面，所述緩沖層覆蓋所述第一導(dǎo)電層。

可選地，轉(zhuǎn)印裝置還包括電源單元和控制單元；

所述電源單元與所述吸附單元以及所述測試電路電連接，用于為所述吸附單元和所述測試電路提供電源；所述控制單元與所述吸附單元以及所述測試電路電連接，用于控制所述測試電路對所述測試電極接觸的微元件進(jìn)行測試，以及控制所述吸附單元吸附測試后的微元件。

第二方面，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種轉(zhuǎn)印方法，采用本發(fā)明任意實(shí)施例提供的轉(zhuǎn)印裝置；所述轉(zhuǎn)印方法包括：

控制轉(zhuǎn)印裝置中的測試電極與供給基底上微元件的電極接觸；其中，所述供給基底上設(shè)置有多個微元件；