[發明專利]一種轉印裝置、轉印裝置的制作方法和轉印方法

有效

• 申請號: 201910319730.0
• 申請日: 2019-04-19
• 公開（公告）號: CN109927403B
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 田文亞;郭恩卿;郭雙
• 申請（專利權）人: 成都辰顯光電有限公司
• 主分類號: B41F16/00
• 分類號: B41F16/00;B41F33/16;B41M5/382
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 范坤坤

1.一種轉印裝置，其特征在于，包括：

測試電極和測試電路；所述測試電極與所述測試電路電連接；所述測試電路用于對所述測試電極接觸的微元件進行測試；

吸附單元；所述吸附單元用于吸附測試合格的微元件；

所述吸附單元包括多個電磁線圈和與所述多個電磁線圈一一對應的第一開關；所述第一開關設置于對應的所述電磁線圈的供電回路上；

所述吸附單元還包括第一電源線和第二電源線；所述電磁線圈包括第一端和第二端；所述電磁線圈的第一端與對應的所述第一開關的一端電連接，所述電磁線圈的第二端與所述第一電源線電連接；所述第一開關的另一端與所述第二電源線電連接。

2.根據權利要求1所述的轉印裝置，其特征在于，所述測試電路包括測試開關和測試信號采集模塊，所述測試電極包括第一電極和第二電極；所述第一電極與所述第一電源線電連接；所述第二電極與所述測試開關的一端電連接，所述測試開關的另一端與所述第二電源線電連接；所述測試信號采集模塊用于采集所述微元件的測試信號。

3.根據權利要求2所述的轉印裝置，其特征在于，還包括基底，所述基底包括相對設置的第一表面和第二表面；

所述基底的第一表面上還設置有圖案化的第一導電層；所述第一導電層構成所述電磁線圈；

在所述基底的第二表面上還設置有圖案化的開關電路層，所述開關電路層構成所述第一開關和所述測試開關。

4.根據權利要求3所述的轉印裝置，其特征在于，所述基底的第一表面還設置有圖案化的第二導電層，所述第二導電層構成所述第一電極和所述第二電極；所述第二導電層的厚度大于所述第一導電層的厚度。

5.根據權利要求4所述的轉印裝置，其特征在于，還包括緩沖層；所述緩沖層位于所述基底的第一表面，所述緩沖層覆蓋所述第一導電層。

6.根據權利要求1-5任一所述的轉印裝置，其特征在于，所述轉印裝置還包括電源單元和控制單元；

所述電源單元與所述吸附單元以及所述測試電路電連接，用于為所述吸附單元和所述測試電路提供電源；所述控制單元與所述吸附單元以及所述測試電路電連接，用于控制所述測試電路對所述測試電極接觸的微元件進行測試，以及控制所述吸附單元吸附測試后的微元件。

7.一種轉印方法，采用權利要求1-6任一所述的轉印裝置；其特征在于，所述轉印方法包括：

控制轉印裝置中的測試電極與供給基底上微元件的電極接觸；其中，所述供給基底上設置有多個微元件；

控制測試電路對所述微元件進行測試；

控制吸附單元吸附測試合格的微元件；

控制所述吸附單元釋放所述微元件至接收基底。

8.根據權利要求7所述的轉印方法，其特征在于，所述吸附單元包括多個電磁線圈和與所述多個電磁線圈一一對應的第一開關；所述第一開關設置于對應的所述電磁線圈的供電回路上；

控制吸附單元吸附測試合格的微元件，包括：

控制與測試合格的微元件對應的第一開關閉合，使所述電磁線圈吸附所述微元件；

控制所述吸附單元釋放所述微元件，包括：

控制與測試合格的微元件對應的第一開關斷開，使所述電磁線圈釋放所述微元件。

9.一種轉印裝置的制作方法，其特征在于，包括：

提供基底；所述基底包括相對設置的第一表面和第二表面；

在所述基底的第一表面形成圖案化的第一導電層，所述第一導電層構成電磁線圈；

在所述基底的第一表面形成圖案化的第二導電層，所述第二導電層構成測試電極；

在所述基底的第二表面形成圖案化的開關電路層，所述開關電路層構成第一開關和測試開關，所述第一開關的兩端通過通孔分別與所述電磁線圈的兩端電連接，所述測試開關的兩端通過所述通孔分別與所述測試電極電連接；

所述電磁線圈包括第一端和第二端；所述電磁線圈的第一端與對應的所述第一開關的一端電連接，所述電磁線圈的第二端與第一電源線電連接；所述第一開關的另一端與第二電源線電連接。