[發明專利]一種釕多吡啶配合物及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201910313344.0
• 申請日: 2019-04-18
• 公開（公告）號: CN111825603B
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發明（設計）人: 王雪松;田納;周前雄
• 申請（專利權）人: 中國科學院理化技術研究所
• 主分類號: C07D213/26
• 分類號: C07D213/26;C07F15/00;G03F7/004
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 趙曉丹

本發明公開一種釕多吡啶配合物，結構如式1所示，該釕多吡啶配合物作為光酸產生劑使用，可解決現有的光酸產生劑需經紫外光照產酸，且產酸反應時間長，需要的原料劑量大，效率低的問題。本發明還公開了該釕多吡啶配合物的制備方法和應用。

技術領域

本發明涉及光酸產生劑技術領域。更具體地，涉及一種釕多吡啶配合物及其制備方法和應用。

背景技術

光酸產生劑(Photoacid?generator,PAG)是一類在一定波長光照下能夠產生酸的分子。光酸產生劑在光刻膠(Photoresist)領域應用廣泛，光刻膠的原理是通過上述光源照射后，溶解度發生變化，在集成電路和半導體配件中，而光酸產生劑可以提高光刻膠體系感光度，提升成像質量。已經有大量的文獻和專利對光酸產生劑進行相關報道，如公開號為CN108496113A的中國發明專利申請公開文件和公開號為CN107129448A的中國發明專利申請公開文件中，均公開了光酸產生劑，目前應用最多的是硫鎓鹽和磺酸酯類的光產酸劑，然而，此類光酸產生劑通過紫外線光照產酸限制其應用，且反應體系是有機溶劑氯仿、乙腈等，反應時間長，有的需達到幾十個小時，且反應所需原料量大。

針對以上問題，需要提供一種新的光酸產生劑。

發明內容

本發明的第一個目的在于提供一種釕多吡啶配合物，將該釕多吡啶配合物作為光酸產生劑使用，可解決現有的光酸產生劑需經紫外光照產酸，且產酸反應時間長，需要的原料劑量大，效率低的問題。

本發明的第二個目的在于提供一種釕多吡啶配合物的制備方法。

本發明的第三個目的在于提供一種光酸產生劑，該光酸產生劑可解決現有的光酸產生劑需經紫外光照產酸，且產酸反應時間長，需要的原料計量大，效率低的問題。

本發明的第四個目的在于提供如上第一個目的提供的釕多吡啶配合物在氫鹵酸的制備中的應用。

為達到上述第一個目的，本發明采用下述技術方案：

一種釕多吡啶配合物，其具有如下式I所述的結構：

其中，

R₁、R₂、R₃各自獨立地選自H或-CH₂X，且至少有一個為-CH₂X，所述X選自鹵素；

所述A-表示平衡電荷的一價陰離子。

可選地，所述鹵素選自Cl、Br中的一種。

可選地，所述一價陰離子選自PF₆^-、Cl^-、NO₃^-、ClO₄^-、BF₄^-中的一種。

為達到上述第二個目的，本發明采用下述技術方案：

一種釕多吡啶配合物的制備方法，

當R₁、R₂、R₃中僅有一個為-CH₂X時，該制備方法包括如下步驟：

將RuCl₃·xH₂O、氯化鋰溶于DMF中，加入2,2’-聯吡啶配體，其中，RuCl₃·xH₂O與2,2’-聯吡啶配體的摩爾比為1:2，在N₂氛圍下回流，旋干溶劑，經過分離純化得到中間體1，將中間體1溶于DMF，加入4,4’-二鹵甲基-2,2’-聯吡啶配體，其中，中間體1與4,4’-二鹵甲基-2,2’-聯吡啶配體的摩爾比為1:1，回流，分離純化得所述釕多吡啶配合物；或，