[發(fā)明專(zhuān)利]復(fù)合薄膜晶體管和制造方法、陣列基板、顯示面板和裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910308964.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109950257B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張淼;唐川江;楊通;邵賢杰 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/12 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京市立方律師事務(wù)所 11330 | 代理人: | 張?bào)銓?/td> |
| 地址: | 230012 *** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 復(fù)合 薄膜晶體管 制造 方法 陣列 顯示 面板 裝置 | ||
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種復(fù)合薄膜晶體管,包括:至少兩個(gè)P型薄膜晶體管、至少一個(gè)第一N型薄膜晶體管和至少一個(gè)第二N型薄膜晶體管。P型薄膜晶體管的有源層為P型摻雜低溫多晶硅,第二N型薄膜晶體管的有源層為金屬氧化物。由于在本發(fā)明實(shí)施例的復(fù)合薄膜晶體管中包括了至少兩個(gè)P型薄膜晶體管、至少一個(gè)第一N型薄膜晶體管和至少一個(gè)第二N型薄膜晶體管及其相應(yīng)的連接關(guān)系,當(dāng)柵極的電壓為正電壓時(shí),該復(fù)合薄膜晶體管在關(guān)態(tài)下的漏電流極低,此時(shí)等效關(guān)態(tài)電流值極低;當(dāng)柵極電壓為負(fù)電壓時(shí),該復(fù)合薄膜晶體管處于等效開(kāi)態(tài)的狀態(tài),使得該復(fù)合薄膜晶體管等價(jià)為一種低漏電流的P型薄膜晶體管。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體為復(fù)合薄膜晶體管和制造方法、陣列基板、顯示面板和顯示裝置。
背景技術(shù)
近年來(lái),顯示技術(shù)得到快速發(fā)展,薄膜晶體管技術(shù)由原來(lái)的非晶硅薄膜晶體管發(fā)展到現(xiàn)在的低溫多晶硅薄膜晶體管、氧化物薄膜晶體管等。目前廣泛應(yīng)用的氧化物薄膜晶體管采用氧化物半導(dǎo)體作為有源層,具有遷移率大、開(kāi)態(tài)電流高、開(kāi)關(guān)特性更優(yōu)、均勻性更好的特點(diǎn),可以適用于需要快速響應(yīng)和較大電流的應(yīng)用,如:高頻、高分辨率、大尺寸的顯示器以及有機(jī)發(fā)光顯示器等。
但是,本申請(qǐng)的發(fā)明人發(fā)現(xiàn),對(duì)于氧化物薄膜晶體管而言,優(yōu)點(diǎn)是氧化物薄膜晶體管的關(guān)態(tài)電流極低,缺點(diǎn)是在現(xiàn)有技術(shù)中尚無(wú)成熟的P型氧化物薄膜晶體管的制作工藝。對(duì)于低溫多晶硅薄膜晶體管而言,優(yōu)點(diǎn)是能夠較容易地制作P型低溫多晶硅薄膜晶體管與N型低溫多晶硅薄膜晶體管,缺點(diǎn)是制作的P型低溫多晶硅薄膜晶體管與N型低溫多晶硅薄膜晶體管具有較高的關(guān)態(tài)電流(Ioff約為10pA~100pA)。
因此,需要一種新型薄膜晶體管,使其能夠等價(jià)為一種低關(guān)態(tài)電流的P型薄膜晶體管。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種復(fù)合薄膜晶體管和制造方法、陣列基板、顯示面板和顯示裝置,解決現(xiàn)有技術(shù)中無(wú)法制作出一種具有低關(guān)態(tài)電流的P型薄膜晶體管的技術(shù)問(wèn)題。
為了解決上述問(wèn)題,本發(fā)明實(shí)施例主要提供如下技術(shù)方案:
在第一方面中,本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種復(fù)合薄膜晶體管,包括:至少兩個(gè)P型薄膜晶體管、至少一個(gè)第一N型薄膜晶體管和至少一個(gè)第二N型薄膜晶體管;
P型薄膜晶體管的有源層為P型摻雜低溫多晶硅,第二N型薄膜晶體管的有源層為金屬氧化物;
兩個(gè)P型薄膜晶體管的柵極和一個(gè)第一N型薄膜晶體管的柵極連接在一起,并與柵極信號(hào)輸入端連接;
其中一P型薄膜晶體管的漏極為復(fù)合薄膜晶體管的漏極,源極與第二N型薄膜晶體管的漏極連接,第二N型薄膜晶體管的源極為復(fù)合薄膜晶體管的源極;
另一P型薄膜晶體管的源極與第一信號(hào)端連接,漏極與第一N型薄膜晶體管的源極連接,第一N型薄膜晶體管的漏極與第二信號(hào)端連接;
第二N型薄膜晶體管的柵極與第一N型薄膜晶體管的源極連接。
可選地,第一信號(hào)端用于輸入高電平信號(hào),第二信號(hào)端用于輸入低電平信號(hào)。
可選地,所述第一N型薄膜晶體管的有源層為N型摻雜低溫多晶硅,或?yàn)榻饘傺趸铩?/p>
可選地,所述金屬氧化物為銦鎵鋅氧化物或者氧化鋅。
可選地,當(dāng)所述第一N型薄膜晶體管的有源層為N型摻雜低溫多晶硅時(shí),P型薄膜晶體管的有源層和所述第一N型薄膜晶體管的有源層位于同一層。
在第二方面中,本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種陣列基板,包括第一方面所述的復(fù)合薄膜晶體管。
在第三方面中,本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種顯示面板,包括第二方面所述的陣列基板。
在第四方面中,本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種顯示裝置,包括第三方面所述的顯示面板。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
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H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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