[發明專利]圖像處理方法、裝置、電子設備及計算機可讀存儲介質

有效

• 申請號: 201910285762.3
• 申請日: 2019-04-10
• 公開（公告）號: CN110008911B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 廖聲洋;唐文斌;吳文昊
• 申請（專利權）人: 北京曠視科技有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G06T5/00
• 代理公司: 北京市立方律師事務所 11330
• 代理人: 張筱寧

1.一種圖像處理方法，其特征在于，包括：

確定視頻信息中的待處理圖像幀，并檢測所述待處理圖像幀中是否包括面部特征；

若包括一個或多個面部特征，獲取各個面部特征分別對應的多個基礎特征點，并根據各個面部特征分別對應的多個基礎特征點，確定各個面部特征分別對應的擬合多項式系數；

基于獲取到的各所述面部特征對應的密集化處理參數，根據各個面部特征分別對應的擬合多項式系數，對各個面部特征分別對應的多個基礎特征點進行密集化處理。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，根據任一面部特征的多個基礎特征點，確定該任一面部特征的擬合多項式系數，包括：

確定所述任一面部特征的各個基礎特征點分別對應的橫坐標與縱坐標，得到對應的各個坐標點；

計算各個坐標點到擬合曲線的偏差平方和，并根據各個基礎特征點，基于所述偏差平方和，對各個多項式系數分別進行偏導數計算，確定所述任一面部特征的擬合多項式系數。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述密集化處理參數包括插值步長，所述基于獲取到的密集化處理參數，根據各個面部特征分別對應的擬合多項式系數，對各個面部特征分別對應的多個基礎特征點進行密集化處理，包括：

基于任一面部特征對應的擬合多項式系數，按照所述插值步長，對所述任一面部特征對應的多個基礎特征點進行相應特征點的插入，得到所述任一面部特征的密集化處理后的密集特征點。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述密集化處理參數包括距離門限值，在對所述任一面部特征對應的多個基礎特征點進行相應特征點的插入之后，還包括：

計算當前密集特征點與前一密集特征點之間的距離；

檢測所述距離是否大于所述距離門限值；

如果大于，則將所述當前密集特征點確定為畸點，并剔除所述畸點。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，在對所述任一面部特征對應的多個基礎特征點進行相應特征點的插入之后，還包括：

輸出剔除所述畸點后的所述任一面部特征的密集化處理后的密集特征點。

6.一種圖像處理裝置，其特征在于，包括：

第一處理模塊，用于確定視頻信息中的待處理圖像幀，并檢測所述待處理圖像幀中是否包括面部特征；

第二處理模塊，用于當待處理圖像幀中包括一個或多個面部特征，獲取各個面部特征分別對應的多個基礎特征點，并根據各個面部特征分別對應的多個基礎特征點，確定各個面部特征分別對應的擬合多項式系數；

第三處理模塊，用于基于獲取到的各所述面部特征對應的密集化處理參數，根據各個面部特征分別對應的擬合多項式系數，對各個面部特征分別對應的多個基礎特征點進行密集化處理。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，第二處理模塊包括確定子模塊與計算子模塊；

所述確定子模塊，用于確定所述任一面部特征的各個基礎特征點分別對應的橫坐標與縱坐標，得到對應的各個坐標點；

所述計算子模塊，用于計算各個坐標點到擬合曲線的偏差平方和，并根據各個基礎特征點，基于所述偏差平方和，對各個多項式系數分別進行偏導數計算，確定所述任一面部特征的擬合多項式系數。

8.根據權利要求6或7所述的裝置，其特征在于，所述密集化處理參數包括插值步長，所述第三處理模塊具體用于基于任一面部特征對應的擬合多項式系數，按照所述插值步長，對所述任一面部特征對應的多個基礎特征點進行相應特征點的插入，得到所述任一面部特征的密集化處理后的密集特征點。

9.一種電子設備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器執行所述程序時實現權利要求1-5任一項所述的圖像處理方法。

10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質上存儲有計算機程序，該程序被處理器執行時實現權利要求1-5任一項所述的圖像處理方法。