[發明專利]改善光阻附著力的方法在審
| 申請號： | 201910275747.0 | 申請日： | 2019-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN110083015A | 公開（公告）日： | 2019-08-02 |
| 發明（設計）人： | 彭釗 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 附著力 玻璃基板 光阻 烷氧基硅烷 基板 化學反應 玻璃玻璃 回收利用 疏水基團 水解產物 吸附 | ||
1.一種改善光阻附著力的方法，包括以下步驟：
S10提供一玻璃基板；以及
S20提供一烷氧基硅烷至所述玻璃基板，使所述烷氧基硅烷與所述玻璃玻璃基板進行化學反應，得到一表面帶有疏水基團的玻璃基板以及一水解產物。
2.根據權利要求1所述的改善光阻附著力的方法，其中所述烷氧基硅烷具有以下化學式1：
(R1)n(R2)mSi-(OR3)y，
在化學式1中，R1、R2及R3各自獨立地為含碳數1-5之直鏈或支鏈烷基，
其中n為1至3的正整數；m為0至2的正整數；y為1至3的正整數；且n+m+y＝4。
3.根據權利要求1所述的改善光阻附著力的方法，其中所述烷氧基硅烷包括以下至少一者：三甲基甲氧基硅烷、叔丁基二甲基甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、及其組合。
4.根據權利要求1所述的改善光阻附著力的方法，其中所述疏水基團具有以下化學式2：
(R1)n(R2)mSi-O-，
在化學式2中，R1及R2各自獨立地為含碳數1-5之直鏈或支鏈烷基，
其中n為1至3的正整數；m為0至2的正整數；且n+m＝3。
5.根據權利要求1所述的改善光阻附著力的方法，其中所述化學反應的溫度為20℃-100℃。
6.根據權利要求1所述的改善光阻附著力的方法，其中所述化學反應的時間為10秒-100秒。
7.根據權利要求1所述的改善光阻附著力的方法，更包括S30收集所述水解產物。
8.根據權利要求1所述的改善光阻附著力的方法，其中所述水解產物為一醇類。
9.根據權利要求1所述的改善光阻附著力的方法，其中所述水解產物具有以下化學式3：
R3-OH
在化學式3中，R3為含碳數1-5之直鏈或支鏈烷基。
10.根據權利要求7所述的改善光阻附著力的方法，其中在所述步驟S30中，收集所述水解產物的方法包括下列至少一者：加熱蒸發冷凝、抽真空、以及管道引流。
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