[發明專利]陣列基板、陣列基板的制作方法和顯示面板

在審

• 申請號: 201910275080.4
• 申請日: 2019-04-02
• 公開（公告）號: CN110109304A
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發明（設計）人: 楊春輝
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司;滁州惠科光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

1.一種陣列基板，其特征在于，包括：

襯底基板；

掃描線，所述掃描線設于所述襯底基板的一表面；

數據線，所述數據線位于所述掃描線背離所述襯底基板的一側，并與所述掃描線交疊設置；以及

黑色矩陣層，所述黑色矩陣層設于所述掃描線和所述數據線之間，且所述黑色矩陣層的至少部分位于所述掃描線和所述數據線的交疊處。

2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括：

柵極絕緣層，所述柵極絕緣層設于所述掃描線背離所述襯底基板的一側，所述數據線設于所述柵極絕緣層背離所述掃描線的一側；以及

黑色矩陣層，所述黑色矩陣層設于所述數據線與所述柵極絕緣層之間。

3.如權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述黑色矩陣層形成有貫穿孔，所述陣列基板還包括有源層、源極和漏極，所述有源層設于所述柵極絕緣層背離所述掃描線的表面，并位于所述貫穿孔內；

所述源極和所述漏極均設于所述有源層背離所述柵極絕緣層的一側，所述源極的至少部分伸出所述貫穿孔，并與所述數據線電性連接。

4.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括：

柵極絕緣層，所述柵極絕緣層設于所述掃描線背離所述襯底基板的一側，所述數據線設于所述柵極絕緣層背離所述掃描線一側；以及

黑色矩陣層，所述黑色矩陣層設于所述掃描線與所述柵極絕緣層之間。

5.如權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括：

有源層，所述有源層設于所述柵極絕緣層背離所述掃描線的表面，所述有源層投影于所述黑色矩陣層的形成投影輪廓，所述投影輪廓位于所述黑色矩陣層內；

源極和漏極，所述源極和所述漏極均設于所述有源層背離所述柵極絕緣層的一側，所述源極與所述數據線電性連接，定義所述源極和所述漏極投影于所述襯底基板形成第一區域，定義所述掃描線投影于所述襯底基板形成第二區域，所述第一區域和所述第二區域間隔設置。

6.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，該陣列基板的制作方法用于制作如權利要求1至5中任一項所述的陣列基板，所述陣列基板的制作方法包括以下步驟：

在襯底基板的一表面形成掃描線；

在所述掃描線背離襯底基板的一側形成黑色矩陣；

在黑色矩陣背離襯底基板的一側形成與掃描線交疊的數據線，其中，所述黑色矩陣層的至少部分位于所述掃描線和所述數據線的交疊處。

7.如權利要求6所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述“在所述掃描線背離襯底基板的一側形成黑色矩陣”的步驟之后，所述“在黑色矩陣背離襯底基板的一側形成與掃描線交疊的數據線，其中，所述黑色矩陣層的至少部分位于所述掃描線和所述數據線的交疊處”的步驟之前還包括：

形成覆蓋黑色矩陣層的柵極絕緣層。

8.如權利要求6所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述“在襯底基板的一表面形成掃描線”的步驟之后，所述“在所述掃描線背離襯底基板的一側形成黑色矩陣”的步驟之前還包括：

形成覆蓋掃描線的柵極絕緣層。

9.如權利要求8所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述“形成覆蓋所述掃描線的柵極絕緣層”的步驟之后還包括：

在所述黑色矩陣層形成顯露柵極絕緣層的貫穿孔；

在貫穿孔顯露的區域形成與柵極絕緣層連接的有源層；

在所述有源層的表面設置相互間隔的源極和漏極，并使所述源極連接所述數據線。

10.一種顯示面板，其特征在于，包括陣列基板和與所述陣列基板相對設置的彩膜基板，所述黑色矩陣形成有透光區，所述彩膜基板包括色塊層，所述色塊層正對所述透光區設置，該陣列基板的制作方法為如權利要求6至9中任一項所述的陣列基板的制作方法；

或者，所述陣列基板為如權利要求1至5任一項所述的陣列基板。