[發明專利]一種適用于真空鍍非晶厚膜的靶材

在審

• 申請號: 201910273667.1
• 申請日: 2019-04-29
• 公開（公告）號: CN109868453A
• 公開（公告）日: 2019-06-11
• 發明（設計）人: 張法亮;張法治
• 申請（專利權）人: 深圳市千禾盛科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種適用于真空鍍非晶厚膜的靶材，其特征在于所述靶材為具有可形成臨界尺寸大于1mm非晶體特征的材質，且該非晶體的玻璃轉化溫度大于450℃。采用本發明靶材制備的薄膜厚度可達10um以上，具有典型的非晶特征，表現出優異的非晶性能，具有廣闊的應用前景。

技術領域

本發明屬于材料技術領域，更具體地，涉及非晶合金的應用。

背景技術

真空鍍膜即物理氣相沉積技術，具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點，近些年來得到快速的發展和工業化應用。

有效的膜層不僅可以提高材料抵御環境的能力，還可以賦予材料表面新的機械性能、裝飾功能甚至特殊功能，而膜層的質量不僅取決于鍍膜工藝，更取決于膜層材料。

非晶合金材料也被稱作金屬玻璃，由于組成合金的原子無序的獨特排列結構，而具有不同于普通結晶態金屬材料的優異的物理、化學性質，例如高屈服強度、高硬度、超彈性（高彈性極限）、高耐磨損性、高耐腐蝕性等，而被人們廣泛認為具有前景的新一代結構材料及功能材料而得到發展。

將非晶合金與膜材料結合起來，大大拓展了非晶合金的應用，但通常用于幾個微米非晶薄膜的制備，難于制備幾十個微米的厚膜，通常出現附著力不佳甚至脫落的問題。

發明內容

本發明旨在至少在一定程度上解決上述技術問題之一或至少提供一種有用的商業選擇。

為此，本發明的一個目的在于提出一種適用于真空鍍非晶厚膜的靶材，其特征在于所述靶材為具有可形成臨界尺寸大于1mm非晶體特征的材質，且該非晶體的玻璃轉化溫度大于450℃。

在本發明中靶材可以由非晶態組成，也可以由晶態組成，也可以為二者的混合物。

在真空鍍膜的過程中，為提高膜層材料與基體（被鍍產品）的附著力，尤其在制備幾十微米的功能膜時，由于膜較厚，通常會提高基體的溫度，尤其是基體的淺表面溫度，表面溫度有時甚至高達400℃，以便形成過渡層增強結合力，同時最大限度的消除膜的應力，這就為非晶膜的形成帶來了障礙。非晶的形成需要一定的冷卻速度，臨界尺寸越大，則要求的冷卻速率越低，本發明發現臨界尺寸低于1mm的非晶材料作為靶源時則很難高效的形成厚的非晶薄膜；基體溫度高，則要求所形成的非晶具有較高的熱穩定性，本發明的所選用的玻璃轉化溫度大于450℃非晶材料，則有效的克服了非晶厚膜生產中帶來的技術問題。

在本發明中，所指的非晶厚膜通常指的是膜厚大于10um的膜層，而在厚膜的情況下更能發揮非晶材質的優異特性。

在本發明中，所述鐵基非晶、鈷基非晶、鎳基、鈦基非晶是指分別以鐵、鈷、鎳、鈦為主要成分的非晶材料，由于鐵基非晶、鈷基非晶、鎳基、鈦基非晶通常具有高強度高耐蝕性，是優異功能薄膜的候選，同時通常具有高的玻璃轉化溫度，而作為本發明的優選材料，也可以作為多靶組合使用。

本發明的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發明的實踐了解到。

附圖說明

圖1示出了實施例1和對比例1 膜層材料的 XRD圖譜。

具體實施方式

下面詳細描述本發明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，旨在用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。

實施例1