[發明專利]一種適用于真空鍍非晶厚膜的靶材在審
| 申請號： | 201910273667.1 | 申請日： | 2019-04-29 |
| 公開（公告）號： | CN109868453A | 公開（公告）日： | 2019-06-11 |
| 發明（設計）人： | 張法亮;張法治 | 申請（專利權）人： | 深圳市千禾盛科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市坪山*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 靶材 非晶 非晶體 真空鍍 厚膜 玻璃轉化 制備 薄膜 應用 表現 | ||
【權利要求書】：
1.一種適用于真空鍍非晶厚膜的靶材，其特征在于所述靶材為具有可形成臨界尺寸大于1mm非晶體特征的材質，且該非晶體的玻璃轉化溫度大于450℃。
2.如權利要求1所述的一種適用于真空鍍非晶厚膜的靶材，其特征在于靶材為非晶態或晶態的一種或兩種組合。
3.如權利要求1所述的一種適用于真空鍍非晶厚膜的靶材，其特征在于非晶膜的厚度大于10um。
4.如權利要求1所述的一種適用于真空鍍非晶厚膜的靶材，其特征在于優選鐵基非晶、鈷基非晶、鎳基、鈦基非晶中的一種或多種組合。
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