[發(fā)明專利]旋轉(zhuǎn)靶材、旋轉(zhuǎn)靶材的綁定方法和裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910273232.7 | 申請日: | 2019-04-04 |
| 公開(公告)號: | CN111778486A | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳寶忠;徐國軍;萬捷;張蛟 | 申請(專利權(quán))人: | 領(lǐng)凡新能源科技(北京)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京智晨知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11584 | 代理人: | 張婧 |
| 地址: | 101407 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 旋轉(zhuǎn) 綁定 方法 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種旋轉(zhuǎn)靶材的綁定方法,涉及靶材技術(shù),能夠解決通過人工釬焊綁定靶材費時費力的問題。所述旋轉(zhuǎn)靶材的綁定方法包括:將背襯管裝配在可旋轉(zhuǎn)底座上;將各段靶材管穿套在所述背襯管上,并對各段靶材管之間的拼接縫隙進行密封,各段靶材管形成環(huán)繞所述背襯管的靶材材料層;對所述背襯管與所述靶材材料層之間的間隙抽真空;向所述背襯管與所述靶材材料層之間的間隙灌入導電膠,并通過旋轉(zhuǎn)所述可旋轉(zhuǎn)底座使所述導電膠在所述間隙中分布均勻。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及靶材技術(shù),尤其一種旋轉(zhuǎn)靶材、旋轉(zhuǎn)靶材的綁定方法和裝置。
背景技術(shù)
靶材已經(jīng)逐漸發(fā)展成為一個專業(yè)化產(chǎn)業(yè),且隨著薄膜技術(shù)的不斷發(fā)展,靶材市場將進一步擴大。目前,靶材的設(shè)計逐漸由平面靶材向旋轉(zhuǎn)靶材過渡,因為一般平面靶材利用率只能達到30%,而旋轉(zhuǎn)靶材的材料利用率可以達到65%以上,而且旋轉(zhuǎn)靶材的濺射速率相對較快,所以適用旋轉(zhuǎn)靶材的鍍膜設(shè)備也越來越多。旋轉(zhuǎn)靶材一般包括背襯管和由靶材材料制成的靶材管,背襯管和靶材管通過綁定工序結(jié)合在一起。目前旋轉(zhuǎn)靶材的綁定主要是通過人工釬焊粘合,通常是先分別將靶材管和背襯管做金屬化處理,再通過人工釬焊將靶材管逐段地拼接粘合到背襯管上。整個過程中費時費力,而且焊料填充困難,靶材與背襯管之間的粘結(jié)率難以保證。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決問題,本發(fā)明提供了一種旋轉(zhuǎn)靶材、旋轉(zhuǎn)靶材的綁定方法和裝置,能夠解決通過人工釬焊綁定靶材費時費力的問題。
本公開的實施例提供一種旋轉(zhuǎn)靶材的綁定方法,包括:
將各段靶材管穿套在所述背襯管上,并對各段靶材管之間的拼接縫隙進行密封,各段靶材管形成環(huán)繞所述背襯管的靶材材料層;
對所述背襯管與所述靶材材料層之間的間隙抽真空;
向所述背襯管與所述靶材材料層之間的間隙灌入導電膠,并通過旋轉(zhuǎn)所述可旋轉(zhuǎn)底座使所述導電膠在所述間隙中分布均勻。
本公開的實施例還提供一種旋轉(zhuǎn)靶材的綁定裝置,包括:
可旋轉(zhuǎn)底座,用于固定所述背襯管;
升降裝置,用于驅(qū)動所述可旋轉(zhuǎn)底座上升或下降;
抽真空設(shè)備,用于對所述背襯管與環(huán)繞所述背襯管的靶材材料層之間的間隙抽真空;
灌膠裝置,用于向所述背襯管與所述靶材材料層之間的間隙灌入導電膠;
所述可旋轉(zhuǎn)底座還用于在灌入導電膠時,使所述背襯管和所述靶材材料層旋轉(zhuǎn),以使所述導電膠在所述間隙中分布均勻。
本公開的實施例還提供一種旋轉(zhuǎn)靶材,包括:
背襯管;
穿套在所述背襯管上的靶材管;
導電膠,所述導電膠設(shè)置于所述背襯管和所述靶材管之間的間隙,用于連接所述背襯管和所述靶材管。
本公開實施例提供的旋轉(zhuǎn)靶材的綁定方法,先將各段靶材管穿套在所述背襯管上,并對各段靶材管之間的拼接縫隙進行密封,然后向背襯管與靶材管之間的間隙灌入導電膠,并通過旋轉(zhuǎn)所述可旋轉(zhuǎn)底座使所述導電膠在所述間隙中分布均勻。
與釬焊方式相比,本公開實施例提供的旋轉(zhuǎn)靶材的綁定方法,具有如下優(yōu)勢:
1、導電膠的膠化溫度一般比釬焊溫度低得多,可改善作業(yè)環(huán)境。
2、由逐段拼接焊合變成通過一次性灌入導電膠,背襯管與各段靶材管通過導電膠結(jié)合,并利用可旋轉(zhuǎn)底座使導電膠在背襯管與靶材管之間的間隙中分布均勻,提高了生產(chǎn)效率及產(chǎn)品良率。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





