[發明專利]測定動作參數調整裝置、機器學習裝置以及系統

在審

• 申請號: 201910271366.5
• 申請日: 2019-04-04
• 公開（公告）號: CN110340884A
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 阿部博
• 申請（專利權）人: 發那科株式會社
• 主分類號: B25J9/16
• 分類號: B25J9/16
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 范勝杰;金慧善

本發明提供一種測定動作參數調整裝置、機器學習裝置以及系統，該測定動作參數調整裝置即使是在測定對象物的設置位置或大小、品種有偏差的情況也能夠有效地對測定對象物的設置位置進行測定，且該測定動作參數調整裝置具備機器學習裝置。所述機器學習裝置觀測表示測定動作的測定動作參數的測定動作參數數據以及表示該測定動作所需要的時間的測定時間數據作為表示環境的當前狀態的狀態變量，并根據該狀態變量，進行使用了將測定動作參數的調整模型化而得的學習模型的學習或決策。

技術領域

本發明涉及測定動作參數調整裝置、機器學習裝置以及系統。

背景技術

以往，如圖11所例示那樣，在機械的機構部安裝接觸式的觸摸傳感器等或非接觸式的視覺傳感器等，通過移動該機構部而移動傳感器，從而對測定對象物的位置進行測定。在如11所示的示例中，在使用了接觸式傳感器時，根據檢查出接觸式傳感器與工件接觸時的機構部的坐標值來對測定對象物的位置進行測定，在使用非接觸傳感器時，根據物體與非接觸傳感器的距離發生了變化時、即非接觸傳感器臨近測定對象物的端部時的機構部的坐標值，來對測定對象物的位置進行測定。

在利用安裝于機械的機構部的傳感器來檢測測定對象物的位置時，需要預先決定測定動作開始時的機構部的位置或測定動作時的機構部移動的速度。作為這樣的決定位置與速度的以往技術，例如在日本特開2010-217182號公報中公開了如下技術：在進行測定之前使傳感器與測定對象物接觸，根據當時的測定位置來決定測定動作開始時的機構部的位置等。

日本特開2010-217182號公報所公開的技術雖然在測定對象物的大小或設置位置沒有偏差的情況下有效，但是在實際的現場接觸式傳感器接觸的位置或非接觸傳感器檢測出距離的變化的位置即使是同一品種的測定對象物也會產生偏差。例如，在對設置成下部具有孔部，且將該孔部與在臺上設置的突部嵌合的測定對象物的位置進行測定時，認為理想是始終設置于相同的位置，但是實際上在孔部與突部之間設置有游隙，在測定對象物的設置位置產生些許偏差。此外，也存在如下情況：測定對象物的形狀本身存在偏差、或通過相同的測定機構來測定不同品種的測定對象物的位置。為了應對這樣的狀況，在日本特開2010-217182號公報所公開的技術中，假設偏差最大的情況而只統一設定具有余量的測定動作開始位置，難以根據狀況縮短時間。

此外，接觸式傳感器與測定對象物接觸而檢測出數字信號為止的時間、或從非接觸式傳感器臨近測定對象物的端部到檢測出數字信號為止的時間，即使傳感器的種類相同因存在個體差而存在偏差，考慮到該偏差如果不設定傳感器的移動速度，則存在如下問題：(接觸式)傳感器與測定對象物碰撞造成傳感器、機構部、測定對象物損傷、或測定對象物的設置位置偏離。并且，在使測定動作中的傳感器移動的速度測定為并非恒定速度的測定對象物的位置產生偏差，因此，測定動作中的傳感器移動的速度如果考慮整體則設定為恒定的慢速，但是有時間延遲這樣的其他問題。

發明內容

因此，希望一種測定動作參數調整裝置、機器學習裝置以及系統，即使是在測定對象物的設置位置或大小、品種有偏差的情況下也能夠有效地對測定對象物的設置位置進行測定。

本發明的一方式提供一種測定動作參數調整裝置，對由測定裝置執行的測定動作的測定動作參數進行調整，所述測定裝置對測定對象物的設置位置進行測定，所述測定動作參數調整裝置具有：機器學習裝置，其觀測表示所述測定動作的測定動作參數的測定動作參數數據以及表示該測定動作所需要的時間的測定時間數據作為表示環境的當前狀態的狀態變量，并根據該狀態變量，進行使用了將所述測定動作參數的調整模型化而得的學習模型的學習或決策。

本發明的其他方式提供一種機器學習裝置，觀測表示由測定裝置執行的測定動作的測定動作參數的測定動作參數數據以及表示該測定動作所需要的時間的測定時間數據作為表示環境的當前狀態的狀態變量，并根據該狀態變量，進行使用了將所述測定動作參數的調整進行模型化而得的學習模型的學習或決策，其中，所述測定裝置對測定對象物的設置位置進行測定。