[發明專利]一種蝕刻設備有效
| 申請號： | 201910270599.3 | 申請日： | 2019-04-04 |
| 公開（公告）號： | CN110106504B | 公開（公告）日： | 2021-03-23 |
| 發明（設計）人： | 劉三泓 | 申請（專利權）人： | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/08 | 分類號： | C23F1/08;C23F1/02 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 蝕刻 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種蝕刻設備，其特征在于，包括
載物臺，用以放置基板；以及
兩個以上噴淋單元，設于所述載物臺上方，用以向所述基板噴淋刻蝕液；
每一噴淋單元包括
第一噴嘴，朝向所述基板方向，所述第一噴嘴中心軸線與豎直方向形成第一夾角；以及
第二噴嘴，朝向所述基板方向，所述第二噴嘴中心軸線與豎直方向形成第二夾角。
2.如權利要求1所述的蝕刻設備，其特征在于，
所述第一夾角、所述第二夾角的角度是可調整的。
3.如權利要求1所述的蝕刻設備，其特征在于，
所述第一夾角與所述第二夾角均為30°～60°。
4.如權利要求1所述的蝕刻設備，其特征在于，
所述第二夾角等于所述第一夾角。
5.如權利要求1所述的蝕刻設備，其特征在于，
所述兩個以上噴淋單元均勻分布于所述載物臺上方。
6.如權利要求1所述的蝕刻設備，其特征在于，
所述兩個以上噴淋單元排列為矩陣。
7.如權利要求1所述的一種蝕刻設備，其特征在于，
所述噴淋單元中噴淋液的噴淋流量和噴淋壓力是可調節的。
8.如權利要求1所述的一種蝕刻設備，其特征在于，還包括
金屬層，覆于所述基板一側的表面；
掩膜層，覆于所述金屬層遠離所述基板一側的表面；
所述噴淋單元對所述金屬層進行蝕刻處理。
9.如權利要求1所述的一種蝕刻設備，其特征在于，所述載物臺包括
輥軸，用以承載所述基板；當所述輥軸轉動時，所述基板被所述輥軸帶動發生平移。
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