[發(fā)明專利]過濾裝置及清洗設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910261692.8 | 申請日: | 2019-04-02 |
| 公開(公告)號: | CN111760372A | 公開(公告)日: | 2020-10-13 |
| 發(fā)明(設計)人: | 初國超 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | B01D36/00 | 分類號: | B01D36/00 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 過濾 裝置 清洗 設備 | ||
本發(fā)明提供一種過濾裝置及清洗設備,包括過濾本體和回收部,其中,過濾本體用于對待過濾流體進行過濾,回收部與過濾本體可拆卸的連接,用于回收經(jīng)過濾本體過濾出的固體雜質。本發(fā)明提供的過濾裝置及清洗設備便于對過濾裝置進行清理,使過濾裝置能夠重復利用,降低過濾成本。
技術領域
本發(fā)明涉及半導體設備技術領域,具體地,涉及一種過濾裝置及清洗設備。
背景技術
目前,在半導體或泛半導體領域中,普遍都會使用到輸送化學液體的管路,這些管路用于將化學液體輸送到腔室中,通過化學液體與晶片之間的相互作用,從而對晶片進行加工。但是,在完整的半導體或泛半導體加工工藝的過程中,不可避免的會在管路中產生顆粒雜質,這些顆粒雜質可能是在設備使用過程中產生的,也可能是由于化學液體與晶片作用產生的晶片碎片,或者其它原因造成的碎片殘渣,這些顆粒雜質會嚴重影響晶片的加工效果。
在現(xiàn)有技術中,通常是在將化學液體通入到腔室之前設置過濾器,用于過濾顆粒雜質,避免顆粒雜質進入腔室中,從而降低顆粒雜質對晶片加工效果的影響。
但是,目前的過濾器在被管路中的顆粒雜質堵塞時,需要更換整個過濾器,而現(xiàn)有過濾器的過濾精度都是微米甚至納米級別,遇到顆粒雜質或者碎片殘渣很容易就被堵住,并且高過濾精度的過濾器價格較高,導致晶片加工的成本較高。
發(fā)明內容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術中存在的技術問題之一,提出了一種過濾裝置及清洗設備,其能夠便于對過濾裝置進行清理,使過濾裝置能夠重復利用,降低過濾成本。
為實現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種過濾裝置,包括過濾本體和回收部,其中,所述過濾本體用于對待過濾流體進行過濾,所述回收部與所述過濾本體可拆卸的連接,用于回收經(jīng)所述過濾本體過濾出的固體雜質。
優(yōu)選的,還包括透視結構,所述透視結構設置在所述過濾本體和/或所述回收部上。
優(yōu)選的,所述透視結構的制作材料包括可溶性聚四氟乙烯材料。
優(yōu)選的,所述過濾本體和/或所述回收部的制作材料包括可溶性聚四氟乙烯材料。
優(yōu)選的,所述過濾本體包括流通管道和過濾部件,所述流通管道包括供所述待過濾流體流入的流入端,和供所述待過濾流體流出的流出端;
所述過濾部件設置在所述流通管道中,用于對自所述流通管道的流入端流入所述流通管道中的所述待過濾流體進行過濾;所述回收部與所述流通管道可拆卸的連接,用于回收經(jīng)所述過濾部件過濾出的所述固體雜質。
優(yōu)選的,所述過濾本體還包括回收管道,所述回收管道連接在所述流通管道的下方,并與所述回收部可拆卸的連接,且所述回收管道與所述流通管道的連接處位于所述過濾部件的上游,用于回收經(jīng)所述過濾部件過濾出的所述固體雜質。
優(yōu)選的,所述回收部與所述過濾本體螺紋連接。
優(yōu)選的,所述過濾本體還包括排氣管道和開關部件,所述排氣管道與所述流通管道連接,所述開關部件設置在所述排氣管道中,用于控制所述排氣管道與大氣的連通或斷開。
優(yōu)選的,所述過濾部件包括過濾板,且所述過濾板所在平面與所述流通管道的徑向橫截面平行,所述過濾板中包括多個過濾孔,且多個所述過濾孔的總面積大于或等于所述流通管道的徑向橫截面的面積。
優(yōu)選的,所述過濾板的數(shù)量為多個,所述回收部的數(shù)量為多個,且多個所述過濾板與多個所述回收部一一對應設置;多個所述過濾板沿所述待過濾流體在所述流通管道中的流通方向間隔設置,每個所述回收部用于回收經(jīng)與該所述回收部對應的所述過濾板過濾出的所述固體雜質。
優(yōu)選的,在所述待過濾流體在所述流通管道中的流通方向上,多個所述過濾板上的所述過濾孔的直徑逐漸減小。
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