[發明專利]一種粉體處理設備及使用方法

在審

• 申請號: 201910244624.0
• 申請日: 2019-03-28
• 公開（公告）號: CN110010441A
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 孫敏;劉鑫培;王文韻
• 申請（專利權）人: 蘇州科技大學;蘇州奧米格材料科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;B01J19/08;B01J3/00
• 代理公司: 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11394
• 代理人: 高新升;王悅

本發明涉及一種粉體處理設備及使用方法，該設備包括真空腔、U型電極、轉料鼓、電源、傳動裝置、進氣孔、出氣孔及格架；所述U型電極、轉料鼓、傳動裝置均設置在所述真空腔內；所述轉動裝置帶動所述轉料鼓轉動；所述U型電極與所述真空腔之間設有絕緣層，所述絕緣層厚度為2～5mm；所述U型電極與所述電源正極連接，所述真空腔接地；所述格架設置在所述轉料鼓內，所述轉料鼓四周均勻設置交換孔；該使用方法操作簡單，使用方便，裝卸料簡單；本發明提高粉體在處理過程中的分散性，避免粉體堆積、結塊，能夠均勻處理粉體表面，處理效率高，處理效果好。

技術領域

本發明涉及等離子體處理技術領域，具體地說是一種粉體處理設備及使用方法。

背景技術

等離子體表面處理：在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，產生等離子體。等離子體是物質的第四態，其中含有大量的電子、離子和自由基等各種活性粒子，活性粒子與材料表面發生物理和化學反應，從而使材料表面的結構、成分和基團發生變化，得到滿足實際使用要求的表面。等離子體反應速度快、處理效率高，而且改性僅發生在材料表面，對材料內部本體材料的性能沒有影響，是理想的表面改性手段。

粉體是一種由干燥、分散的固體顆粒組成的細微粒子，由于粉體分子間的作用力，當粉末顆粒粒徑很小時，極易在空氣中粘結成團，特別是微米、亞微米級的超細粉末，這種現象對粉體的加工過程極為不利。

用等離子體處理粉體和顆粒已有多年實踐，等離子體處理可改善粉體和顆粒材料的各種化學和/或物理特性，例如氧化、還原、交聯、解吸、蝕刻、接枝和/或聚合等性能。由于粉體物料的特殊性質，在對其進行等離子體表面處理時，由于微粒間的團聚和顆粒間的堆積，使得沒有暴露在等離子體氣氛中的表面得不到處理，因此難以實現單個微粒表面得到全部的處理，導致處理均勻性差，處理效率低，處理效果差。同時，用等離子體處理粉體或顆粒的現有設備結構各異，但它們都有明顯缺點，如操作復雜、處理過程中存在處理盲區等。

如中國專利CN202205700U公開了一種顆粒狀材料表面低溫等離子體處理裝置，包括轉鼓、電極組、進氣口、擋板以及等離子體發生電源，所述轉鼓內壁固定有擋板，轉鼓外設有環形板電極組，在轉鼓的兩端設有進氣口和抽氣口。該裝置盡管可以實現對材料表面進行等離子體處理，但轉鼓在旋轉的過程中材料容易集中在轉鼓下端，導致下端的材料處理不完全，出現處理盲區。

因此，如何提供一種粉體處理設備及使用方法，以實現提高粉體在處理過程中的分散性，能夠均勻處理粉體表面，處理效率高，處理效果好，裝卸料簡單，操作方便，是目前本領域技術人員亟待解決的技術問題。

發明內容

有鑒于此，本申請的目的在于提供一種粉體處理設備及使用方法，以實現提高粉體在處理過程中的分散性，能夠均勻處理粉體表面，處理效率高，處理效果好，裝卸料簡單，操作方便。

為了達到上述目的，本申請提供如下技術方案。

一種粉體處理設備，包括真空腔、U型電極、轉料鼓、電源、傳動裝置、進氣孔、出氣孔及格架；

所述U型電極、轉料鼓均設置在所述真空腔內；所述傳動裝置帶動所述轉料鼓轉動；

所述U型電極與所述真空腔之間設有絕緣層，所述絕緣層厚度為2～5mm；

所述U型電極與所述電源正極連接，所述真空腔接地；

或者所述U型電極下端設置有與其隔離的平板電極，平板電極與真空腔之間設置絕緣層，所述平板電極接地；

所述格架設置在所述轉料鼓內，所述轉料鼓四周均勻設置交換孔。

優選地，所述進氣孔和出氣孔分別設置在所述真空腔上，且在所述U型電極與真空腔相對的位置也分別設置與所述進氣孔和出氣孔相同大小的孔徑。