[發明專利]有安全和/或標識元件的醫學假體、醫學接骨裝置或助聽器

在審

• 申請號: 201910244620.2
• 申請日: 2019-03-28
• 公開（公告）號: CN110314000A
• 公開（公告）日: 2019-10-11
• 發明（設計）人: 馬塞爾·埃斯特曼;賈斯明·瓦澤;克里斯汀·施奈德;安熱莉克·盧-迪尼;馬克·施尼佩爾;大衛·卡爾魏特;羅杰·克朗恩布爾;邁克爾·德維爾德;羅米·琳達·馬雷克
• 申請（專利權）人: 瑞士CSEM電子顯微技術研發中心
• 主分類號: A61C8/00
• 分類號: A61C8/00;G02B5/18;G09F3/02
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 謝攀;王春偉

1.一種裝置(4)，其形式為醫學植入物、醫學假體(9、17)、醫學接骨裝置、助聽器或助聽器殼體，在每種情況下，至少部分或基本上完全由金屬制成，

其中所述裝置(4、9、17)包括至少一個納米和/或微米結構(6)，所述納米和/或微米結構(6)以安全和/或標識元件的形式直接沖壓在暴露的金屬表面上。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中納米和/或微米結構是具有光柵(6)的光學衍射元件。

3.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中所述金屬選自：鋼，優選為不銹鋼或植入鋼；鈦或含有鋅、鈮、鉭、釩、鋁中的至少一種的鈦合金。

4.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中該裝置是牙植入物(9)，優選地鈦或不銹鋼牙植入物。

5.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中納米和/或微米結構的周期，優選地光柵(6)的周期，為0.3-3微米或0.5-2微米，優選為1-1.9微米或1.7-1.9微米，

和/或其中納米和/或微米結構的深度，優選地光柵(6)的深度，為80-500納米，優選為200-400納米，更優選為230-300納米。

6.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中納米和/或微米結構，優選地光柵(6)沖壓在裝置的地面暴露金屬部件上，

和/或其中納米和/或微米結構，優選地光柵(6)沖壓在裝置的暴露金屬部件上，該暴露金屬部件的表面粗糙度Ra(根據ISO4287:1997定義)為至多0.8微米，優選為至多0.5微米或至多0.3微米或至多0.23微米，優選為0.20-0.25微米。

7.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中納米和/或微米結構，優選地光柵(6)使用0.1-5kN/mm²的沖壓壓力，優選地0.2-2kN/mm²或0.2-1kN/mm²的沖壓壓力來沖壓，

和/或其中納米和/或微米結構，優選地光柵(6)，在至多150℃、優選至多100℃、優選10-40℃的溫度下沖壓。

8.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中所述裝置是牙植入物(9)或支承部，優選地鈦或不銹鋼牙植入物或支承部，并且其中優選地，納米和/或微米結構，優選地光柵(6)以貼片的形式設置在冠狀頸環區域(10)中，優選地在其已磨光的金屬部分上，其中，更優選地，納米和/或微觀結構，優選地光柵(6)，被設置在由要安裝在植入物上的支承部(17)覆蓋的軸向表面(12、13)上，或被設置在頸環區域(10)的已磨光的暴露金屬圓柱形或圓錐形(15)頂部上。

9.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中所述裝置是牙支承部(17)并且其中優選地，納米和/或微觀結構，優選地光柵(6)被設置在支承部的突出部分的圓柱形或圓錐形(18)部分上。

10.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中納米和/或微觀結構，優選地光柵(6)以貼片的形式設置，所述貼片的表面積為至多5cm²或至多5mm²，優選為2-4.5mm²，

和/或其中納米和/或微米結構，優選地光柵(6)被設置使得納米和/或微觀結構的尖端，優選地光柵(6)的尖端，基本上與由周圍金屬表面限定的表面平面齊平。

11.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中納米和/或微觀結構，優選地光柵作為光學衍射元件生成圖片和/或字母和/或數字和/或象形圖和/或標志的圖像。