[發明專利]生成方法及裝置、生成系統及其構建方法、精度管理方法

在審

• 申請號: 201910240184.1
• 申請日: 2019-03-28
• 公開（公告）號: CN110320375A
• 公開（公告）日: 2019-10-11
• 發明（設計）人: 蘆田衛;大東元就;記野史子;吉本倫子;關茜;中島一博;平野秀樹
• 申請（專利權）人: 希森美康株式會社
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李今子

1.一種生成方法，生成用于管理檢體分析裝置的分析精度的指標，其中，所述生成方法包括：

從多個檢體分析裝置獲取與檢體是陽性還是陰性有關的判定結果的工序；以及

根據從所述多個檢體分析裝置獲取到的多個判定結果，生成基于由所述多個檢體分析裝置判定為陽性或者陰性的檢體的比例的指標的工序。

2.一種生成方法，是用于管理檢體分析裝置的分析精度的精度管理數據的生成方法，其中，所述生成方法包括：

從多個檢體分析裝置獲取與檢體是陽性還是陰性有關的判定結果的工序；

根據從所述多個檢體分析裝置獲取到的多個判定結果，生成基于由所述多個檢體分析裝置判定為陽性或者陰性的檢體的比例的精度管理用的指標的工序；以及

生成能夠將由分析精度的管理對象的檢體分析裝置判定為陽性或者陰性的檢體的比例與所述指標進行比較的精度管理數據的工序。

3.根據權利要求1或者2所述的生成方法，其中，

所述比例為陽性率。

4.根據權利要求1或者2所述的生成方法，其中，

所述比例為陰性率。

5.根據權利要求2所述的生成方法，其中，

所述精度管理數據包含用于將從所述管理對象的檢體分析裝置得到的所述比例與所述指標一起示出的數據。

6.根據權利要求1至5中的任意一項所述的生成方法，其中，

所述多個檢體分析裝置設置于同一設施。

7.根據權利要求1至5中的任意一項所述的生成方法，其中，

所述多個檢體分析裝置設置于多個設施。

8.根據權利要求2所述的生成方法，其中，

針對每預定的檢體數計算從所述管理對象的檢體分析裝置得到的所述比例。

9.根據權利要求2所述的生成方法，其中，

所述生成方法還包括獲取與試劑的批次有關的信息的工序，

針對試劑的每個批次計算從所述管理對象的檢體分析裝置得到的所述比例。

10.根據權利要求9所述的生成方法，其中，

每當獲取所述檢體的測量數據的試劑的批次變化時，所述指標被更新。

11.根據權利要求1至10中的任意一項所述的生成方法，其中，

每當患者的治療方法變化時，所述指標被更新。

12.根據權利要求1至11中的任意一項所述的生成方法，其中，

所述指標根據直至生成所述指標的時間點為止的累計檢體數而變動。

13.根據權利要求1至12中的任意一項所述的生成方法，其中，

根據直至生成所述指標的時間點為止從所述多個檢體分析裝置獲取到的所述比例的平均值來計算所述指標。

14.根據權利要求1至13中的任意一項所述的生成方法，其中，

所述指標為從置信區間的上限值以及下限值選擇的至少一個值。

15.根據權利要求14所述的生成方法，其中，

所述指標為從99.7％置信區間的上限值以及下限值選擇的至少一個值。

16.根據權利要求1至15中的任意一項所述的生成方法，其中，

關于多個檢查項目獲取所述判定結果，針對每個檢查項目獲取所述比例。

17.根據權利要求2所述的生成方法，其中，

所述精度管理數據顯示于畫面。