[發明專利]一種自動曝光機

在審

• 申請號: 201910232548.1
• 申請日: 2019-03-26
• 公開（公告）號: CN109932873A
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發明（設計）人: 戴童慶;劉虎;袁璧輝
• 申請（專利權）人: 深圳市大川光電設備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427
• 代理人: 陳娟

本發明提供一種自動曝光機，其包括用于對待曝光基板進行對位操作的第一氣浮式對位裝置、用于對待曝光基板進行第一表面的曝光操作的第一氣浮式曝光裝置、用于對待曝光基板進行板面翻轉操作的氣浮式翻轉裝置、用于對翻轉后的待曝光基板進行再次對位操作的第二氣浮式對位裝置、用于對待曝光基板進行第二表面的曝光操作的第二氣浮式曝光裝置以及用于對曝光完成的待曝光基板進行出料操作的氣浮式出料裝置。本發明的自動曝光機，其整個自動化曝光流程單向流動，沒有等待時間，可有效提高生產效率，同時，待曝光基板在經過潔凈處理的氣墊上全程處于無表面接觸摩擦的狀態，可實現無摩擦的運動定位和高效傳送，以及避免了接觸摩擦造成的產品質量問題。

技術領域

本發明涉及印刷電路板在圖形影像轉移過程中的自動化技術領域，尤其涉及一種自動曝光機。

背景技術

目前，在印制電路圖形的自動曝光機中，都是通過機械滾輪摩擦傳送工件、機械手吸盤攝取工件表面來實現工件的定位、交替和工位之間的自動銜接。存在機械結構復雜，傳送鏈長；占地面積大；機械動作循環周期長，生產效率低等問題。特別是近年來印制電路的高密度精細化，使在生產過程中與工件表面接觸造成的靜電、污染、劃傷等成為影響產品質量的突出難題。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種自動曝光機，其整個自動化曝光流程單向流動，沒有等待時間，可有效提高生產效率，同時，待曝光基板在經過潔凈處理的氣墊上全程處于無表面接觸摩擦的狀態，可實現無摩擦的運動定位和高效傳送，以及避免了接觸摩擦造成的產品質量問題。

為實現上述目的，本發明提出一種自動曝光機，所述自動曝光機包括：第一氣浮式對位裝置，用于通過氣浮式結構對待曝光基板進行對位操作；第一氣浮式曝光裝置，用于通過氣浮式結構對所述待曝光基板進行第一表面的曝光操作；氣浮式翻轉裝置，用于通過氣浮式結構對所述待曝光基板進行板面翻轉操作；第二氣浮式對位裝置，用于通過氣浮式結構對翻轉后的所述待曝光基板進行再次對位操作；第二氣浮式曝光裝置，用于通過氣浮式結構對所述待曝光基板進行第二表面的曝光操作；氣浮式出料裝置，用于通過氣浮式結構對曝光完成的所述待曝光基板進行出料操作；所述第一氣浮式對位裝置、所述第一氣浮式曝光裝置、所述氣浮式翻轉裝置、所述第二氣浮式對位裝置、所述第二氣浮式曝光裝置以及所述氣浮式出料裝置依次對接設置。

可選地，所述第一氣浮式對位裝置、所述第一氣浮式曝光裝置、所述氣浮式翻轉裝置、所述第二氣浮式對位裝置、所述第二氣浮式曝光裝置以及所述氣浮式出料裝置呈一字排列設置。

可選地，所述第一氣浮式對位裝置、所述第一氣浮式曝光裝置、所述氣浮式翻轉裝置、所述第二氣浮式對位裝置、所述第二氣浮式曝光裝置以及所述氣浮式出料裝置呈兩排設置，使得所述第一氣浮式對位裝置與所述氣浮式出料裝置相鄰設置、所述第一氣浮式曝光裝置與所述第二氣浮式曝光裝置相鄰設置、所述氣浮式翻轉裝置與所述第二氣浮式對位裝置相鄰設置。

可選地，所述第一氣浮式對位裝置及所述第二氣浮式對位裝置分別包括氣浮對位平臺與移載對位裝置，所述氣浮對位平臺包括氣浮對位平面，所述移載對位裝置包括與待曝光基板的大小相適配的基板定位框以及驅動所述待曝光基板由所述氣浮對位平面的上方平移到所述第一氣浮式曝光裝置的上方的平移運動機構。

可選地，所述基板定位框包括對位擋板、第一活動擋板、兩間隔設置的第二活動擋板、第一驅動機構以及兩第二驅動機構；所述對位擋板的長度與所述待曝光基板的長度或寬度相適配；所述第一活動擋板與所述對位擋板相互平行設置；所述第一驅動機構與所述第一活動擋板驅動連接，以驅動所述第一活動擋板遠離或靠近所述對位擋板；每一所述第二活動擋板分別與所述對位擋板相互垂直設置；兩所述第二驅動機構與兩所述第二活動擋板一一對應驅動連接，以驅動相應的兩所述第二活動擋板相向或相離遠動，使得所述對位擋板、所述第一活動擋板、兩所述第二活動擋板活動圍成與所述待曝光基板的大小相適配的所述基板定位框。