[發明專利]一種自動曝光機

在審

• 申請號: 201910232548.1
• 申請日: 2019-03-26
• 公開（公告）號: CN109932873A
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發明（設計）人: 戴童慶;劉虎;袁璧輝
• 申請（專利權）人: 深圳市大川光電設備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427
• 代理人: 陳娟

1.一種自動曝光機，其特征在于，所述自動曝光機包括：

第一氣浮式對位裝置，用于通過氣浮式結構對待曝光基板進行對位操作；

第一氣浮式曝光裝置，用于通過氣浮式結構對所述待曝光基板進行第一表面的曝光操作；

氣浮式翻轉裝置，用于通過氣浮式結構對所述待曝光基板進行板面翻轉操作；

第二氣浮式對位裝置，用于通過氣浮式結構對翻轉后的所述待曝光基板進行再次對位操作；

第二氣浮式曝光裝置，用于通過氣浮式結構對所述待曝光基板進行第二表面的曝光操作；

氣浮式出料裝置，用于通過氣浮式結構對曝光完成的所述待曝光基板進行出料操作；

所述第一氣浮式對位裝置、所述第一氣浮式曝光裝置、所述氣浮式翻轉裝置、所述第二氣浮式對位裝置、所述第二氣浮式曝光裝置以及所述氣浮式出料裝置依次對接設置。

2.如權利要求1所述的自動曝光機，其特征在于，所述第一氣浮式對位裝置、所述第一氣浮式曝光裝置、所述氣浮式翻轉裝置、所述第二氣浮式對位裝置、所述第二氣浮式曝光裝置以及所述氣浮式出料裝置呈一字排列設置。

3.如權利要求1所述的自動曝光機，其特征在于，所述第一氣浮式對位裝置、所述第一氣浮式曝光裝置、所述氣浮式翻轉裝置、所述第二氣浮式對位裝置、所述第二氣浮式曝光裝置以及所述氣浮式出料裝置呈兩排設置，使得所述第一氣浮式對位裝置與所述氣浮式出料裝置相鄰設置、所述第一氣浮式曝光裝置與所述第二氣浮式曝光裝置相鄰設置、所述氣浮式翻轉裝置與所述第二氣浮式對位裝置相鄰設置。

4.如權利要求1-3任一所述的自動曝光機，其特征在于，所述第一氣浮式對位裝置及所述第二氣浮式對位裝置分別包括氣浮對位平臺與移載對位裝置，所述氣浮對位平臺包括氣浮對位平面，所述移載對位裝置包括與待曝光基板的大小相適配的基板定位框以及驅動所述待曝光基板由所述氣浮對位平面的上方平移到所述第一氣浮式曝光裝置的上方的平移運動機構。

5.如權利要求4所述的自動曝光機，其特征在于，所述基板定位框包括對位擋板、第一活動擋板、兩間隔設置的第二活動擋板、第一驅動機構以及兩第二驅動機構；所述對位擋板的長度與所述待曝光基板的長度或寬度相適配；所述第一活動擋板與所述對位擋板相互平行設置；所述第一驅動機構與所述第一活動擋板驅動連接，以驅動所述第一活動擋板遠離或靠近所述對位擋板；每一所述第二活動擋板分別與所述對位擋板相互垂直設置；兩所述第二驅動機構與兩所述第二活動擋板一一對應驅動連接，以驅動相應的兩所述第二活動擋板相向或相離遠動，使得所述對位擋板、所述第一活動擋板、兩所述第二活動擋板活動圍成與所述待曝光基板的大小相適配的所述基板定位框。

6.如權利要求1-3任一所述的自動曝光機，其特征在于，所述第一氣浮式曝光裝置及所述第二氣浮式曝光裝置分別包括氣浮曝光平臺、底片框、對位相機以及曝光光源，所述氣浮曝光平臺包括氣浮吸附一體曝光平面，所述底片框、所述對位相機以及所述曝光光源依次設于所述氣浮吸附一體曝光平面的上方。

7.如權利要求1-3任一所述的自動曝光機，其特征在于，所述氣浮式翻轉裝置包括第一氣浮翻轉平臺、第二氣浮翻轉平臺以及翻轉機構；所述第一氣浮翻轉平臺包括第一氣浮翻轉平面，所述第二氣浮翻轉平臺包括第二氣浮翻轉平面，所述第一氣浮翻轉平面與所述第二氣浮翻轉平面上下相對間隔設置，使得所述待曝光基板懸浮于所述第一氣浮翻轉平面與所述第二氣浮翻轉平面之間；所述第一氣浮翻轉平臺與所述第二氣浮翻轉平臺之間通過若干擋板結構連接固定，所述翻轉機構驅動連接所述第二氣浮翻轉平臺的底部，以實現所述第一氣浮翻轉平臺與所述第二氣浮翻轉平臺的共同翻轉。

8.如權利要求7所述的自動曝光機，其特征在于，若干所述擋板結構在所述第一氣浮翻轉平臺與所述第二氣浮翻轉平臺之間形成進料口與出料口，所述進料口的進料方向與所述出料口的出料方向相同或相互垂直設置。