[發明專利]一種蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201910225350.0
• 申請日: 2019-03-26
• 公開（公告）號: CN109943809B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 黃永振;武思平;劉高文;王成;羅鵬;王會;邱林林;吳偉力
• 申請（專利權）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 成珊

一種蒸鍍設備，其包括：蒸鍍氣體供應裝置，所述蒸鍍氣體供應裝置包括蒸鍍氣體出口端，所述蒸鍍氣體出口端上形成有蒸鍍氣體出口；蒸鍍氣體助推裝置，所述蒸鍍氣體助推裝置包括圍繞所述蒸鍍氣體出口端設置的基座，以及設置于所述基座上的噴氣出口，所述噴氣出口朝向所述蒸鍍氣體出口的上方設置。通過設置有朝向蒸鍍氣體出口噴射惰性氣體的噴氣出口，通過惰性氣體分子與坩堝口內蒸鍍氣體分子產生碰撞的方式，增加蒸鍍分子的動能從而使飛向基板表面并沉積的蒸鍍氣體分子增加，提高材料利用率。

技術領域

本發明涉及基板處理技術領域，具體涉及一種蒸鍍設備。

背景技術

OLED顯示器件生產過程中使用的蒸鍍材料價格昂貴，蒸鍍時，由于坩堝口距離基板的距離較長，高真空環境中蒸鍍材料分子的運動動能較小，因此在蒸鍍過程中的大部分蒸鍍材料分子無法運動到基板表面，而直接沉積在坩堝口附近的角度限制板或者腔室內壁上，導致了蒸鍍過程中的材料分子沉積的比例較低、蒸鍍工藝材料利用率較低；在造成材料浪費同時也造成腔室內部的污染。

發明內容

因此，本發明要解決的技術問題在于克服現有技術中的蒸鍍材料利用率低、蒸鍍工藝成本較大的缺陷，從而提供一種蒸鍍設備。

為此，本發明的技術方案如下：

一種蒸鍍設備，其特征在于包括：

蒸鍍氣體供應裝置，所述蒸鍍氣體供應裝置包括蒸鍍氣體出口端，所述蒸鍍氣體出口端上形成有蒸鍍氣體出口；

蒸鍍氣體助推裝置，所述蒸鍍氣體助推裝置包括圍繞所述蒸鍍氣體出口端設置的基座，以及設置于所述基座上的噴氣出口，所述噴氣出口朝向所述蒸鍍氣體出口的上方設置。

進一步地，沿蒸鍍氣體流動方向，所述噴氣出口不低于所述蒸鍍氣體出口。

進一步地，所述基座的內壁與所述蒸鍍氣體出口端的外壁具有間距，且兩者間的最小水平距離小于或等于所述蒸鍍氣體出口口徑的2倍。

進一步地，所述基座上設置有多個噴嘴，每個所述噴嘴具有至少一個所述噴氣出口，多個所述噴嘴環繞所述蒸鍍氣體出口端設置。

進一步地，所述基座包括環狀內壁和環狀外壁，所述環狀外壁和所述環狀內壁之間形成環形連續容納腔，所述環形連續容納腔的一側形成所述噴氣出口；

其中，所述噴氣出口為多個，多個所述噴氣出口環繞所述蒸鍍氣體出口端設置；或

所述噴氣出口為環繞所述蒸鍍氣體出口端設置的一個連續出口。

進一步地，沿蒸鍍氣體流動的方向，所述環狀外壁的頂部邊緣高于所述環狀內壁的頂部邊緣。

進一步地，所述環狀外壁和所述環狀內壁沿水平方向等距離設置。

進一步地，沿蒸鍍氣體流動的方向，所述基座上設有至少兩組所述噴氣出口，每組所述噴氣出口包括環繞所述蒸鍍氣體出口端設置的多個噴氣出口或者一個連續設置的噴氣出口；優選地，相鄰兩組所述噴氣出口的噴射角度不同。

進一步地，同一組所述噴氣單元內的所述噴氣出口的氣體噴出角度不同。

進一步地，所述噴氣出口的氣體噴射方向與所述蒸鍍氣體出口所在平面夾角設置為θ，則θ滿足以下關系：

θ≤arctan(H/R),

其中，

H為蒸鍍氣體出口所在平面與基板表面之間的垂直距離；

R為噴氣出口與蒸鍍氣體出口中心之間的水平距離。

本發明技術方案，具有如下優點：