[發(fā)明專利]一種蒸鍍?cè)O(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910225350.0
• 申請(qǐng)日: 2019-03-26
• 公開（公告）號(hào): CN109943809B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃永振;武思平;劉高文;王成;羅鵬;王會(huì);邱林林;吳偉力
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 成珊

1.一種蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，包括：

蒸鍍氣體供應(yīng)裝置，所述蒸鍍氣體供應(yīng)裝置包括蒸鍍氣體出口端，所述蒸鍍氣體出口端上形成有蒸鍍氣體出口；

蒸鍍氣體助推裝置，所述蒸鍍氣體助推裝置包括圍繞所述蒸鍍氣體供應(yīng)裝置的外壁的基座，所述基座圍繞所述蒸鍍氣體出口端設(shè)置，以及設(shè)置于所述基座上的噴氣出口，所述噴氣出口朝向所述蒸鍍氣體出口的上方設(shè)置；所述基座的內(nèi)壁與所述蒸鍍氣體供應(yīng)裝置的外壁具有間距；所述基座的內(nèi)壁與所述蒸鍍氣體供應(yīng)裝置的外壁間的水平距離小于或等于所述蒸鍍氣體出口口徑的2倍。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：沿蒸鍍氣體流動(dòng)方向，所述噴氣出口不低于所述蒸鍍氣體出口。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：所述基座上設(shè)置有多個(gè)噴嘴，每個(gè)所述噴嘴具有至少一個(gè)所述噴氣出口，多個(gè)所述噴嘴環(huán)繞所述蒸鍍氣體出口端設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：所述基座包括環(huán)狀內(nèi)壁和環(huán)狀外壁，所述環(huán)狀外壁和所述環(huán)狀內(nèi)壁之間形成環(huán)形連續(xù)容納腔，所述環(huán)形連續(xù)容納腔的一側(cè)形成所述噴氣出口；

其中，所述噴氣出口為多個(gè)，多個(gè)所述噴氣出口環(huán)繞所述蒸鍍氣體出口端設(shè)置；或

所述噴氣出口為環(huán)繞所述蒸鍍氣體出口端設(shè)置的一個(gè)連續(xù)出口。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：沿蒸鍍氣體流動(dòng)的方向，所述環(huán)狀外壁的頂部邊緣高于所述環(huán)狀內(nèi)壁的頂部邊緣。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，所述環(huán)狀外壁和所述環(huán)狀內(nèi)壁沿水平方向等距離設(shè)置。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：沿蒸鍍氣體流動(dòng)的方向，所述基座上設(shè)有至少兩組所述噴氣出口，每組所述噴氣出口包括環(huán)繞所述蒸鍍氣體出口端設(shè)置的多個(gè)噴氣出口或者一個(gè)連續(xù)設(shè)置的噴氣出口。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：

相鄰兩組所述噴氣出口的噴射角度不同。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：同一組所述噴氣出口的氣體噴出角度不同。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：所述噴氣出口的氣體噴射方向與所述蒸鍍氣體出口所在平面夾角設(shè)置為θ，則θ滿足以下關(guān)系：

θ≤arctan(H/R),

其中，

H為蒸鍍氣體出口所在平面與基板表面之間的垂直距離；

R為噴氣出口與蒸鍍氣體出口中心之間的水平距離。