[發明專利]一種電鍍液、電鍍方法及產品有效
| 申請號: | 201910215452.4 | 申請日: | 2019-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN109811375B | 公開(公告)日: | 2020-08-11 |
| 發明(設計)人: | 劉曉旭;張昕;許衛;應孟峰;周義;王瑀瑤 | 申請(專利權)人: | 安泰科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C25D3/22 | 分類號: | C25D3/22;C25D5/36;C25D5/10;C25D5/48;C23G1/08;C23C22/68 |
| 代理公司: | 北京五洲洋和知識產權代理事務所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 劉春成;榮紅穎 |
| 地址: | 100081 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電鍍 方法 產品 | ||
1.一種電鍍方法,所述電鍍方法為使用第一電鍍液對待鍍件進行電鍍處理,所述第一電鍍液是溶質包括硫酸鋅、硼酸和聚醚的水溶液;
在所述第一電鍍液中,所述硫酸鋅的濃度為400-500g/L,所述硼酸的濃度為15-25g/L,所述聚醚濃度為5-30ml/L;所述第一電鍍液的pH為4-6;
使用第二電鍍液對經所述第一電鍍液電鍍處理后的待鍍件進行電鍍處理,形成雙層電鍍件,所述第二電鍍液是溶質包括氯化鋅、氯化鈉和硼酸的水溶液;
在所述第二電鍍液中,所述氯化鋅的濃度為30-70g/L,所述氯化鈉的濃度為100-300g/L,所述硼酸的濃度為15-40g/L;所述第二電鍍液的pH為4-6。
2.如權利要求1所述的電鍍方法,其特征在于,
所述待鍍件是釹鐵硼磁體。
3.如權利要求1所述的電鍍方法,其特征在于,
所述聚醚的分子式為HO(C2H4O)10-15(C3H6O)18-23(C2H4O)10-15H。
4.如權利要求1所述的電鍍方法,其特征在于,
使用所述第一電鍍液對所述待鍍件進行電鍍處理之前對所述待鍍件進行電鍍前處理。
5.如權利要求1所述的電鍍方法,其特征在于,
使用所述第二電鍍液對經所述第一電鍍液電鍍處理后的所述待鍍件進行電鍍處理之后進行電鍍后處理。
6.如權利要求5所述的電鍍方法,其特征在于,
所述電鍍后處理包括水洗處理、出光處理、鈍化處理和烘烤處理。
7.如權利要求1所述的電鍍方法,其特征在于,
使用所述第一電鍍液對所述電鍍件進行電鍍處理的步驟為:在溫度為15-35℃下為所述待鍍件電鍍1-4μm厚的鍍層。
8.如權利要求1所述的電鍍方法,其特征在于,
使用所述第二電鍍液對經所述第一電鍍液電鍍處理后的所述待鍍件進行電鍍處理的步驟為:在溫度為15-35℃下電鍍5-8μm厚的鍍鋅層。
9.如權利要求4所述的電鍍方法,其特征在于,
所述電鍍前處理的步驟為:除油處理、除銹處理和去灰處理。
10.如權利要求6所述的電鍍方法,其特征在于,
所述水洗處理的步驟為:水洗所述雙層電鍍件時間為5-30s。
11.如權利要求6所述的電鍍方法,其特征在于,
所述出光處理的步驟為:在濃度為0.1-0.5‰v/v的稀硝酸中處理所述雙層電鍍件30-60s。
12.如權利要求6所述的電鍍方法,其特征在于,
所述鈍化處理的步驟為:使用濃度為20-40g/L pH1-1.5的硝酸鉻在40-50℃下處理所述雙層電鍍件30-60s。
13.如權利要求6所述的電鍍方法,其特征在于,
所述烘烤處理的步驟為:在40-70℃下烘烤所述雙層電鍍件600-1200s。
14.一種鍍鋅電鍍件,所述鍍鋅電鍍件是通過權利要求1-13中任一項所述的電鍍方法電鍍得到的所述鍍鋅電鍍件。
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