[發明專利]一種光柵器件及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201910204650.0
• 申請日: 2019-03-18
• 公開（公告）號: CN109917503B
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發明（設計）人: 王美麗;徐婉嫻;王飛;梁軒;王慧娟;譚紀風;孟憲東
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 北京市立方律師事務所 11330
• 代理人: 張筱寧

1.一種光柵器件的制造方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上制作光柵材料層；

通過構圖工藝在所述光柵材料層上制作犧牲層，所述犧牲層制作在非取光區內，用于在后續刻蝕過程中保護該犧牲層下方的光柵材料層；

對制作有所述光柵材料層和所述犧牲層的所述襯底基板進行納米壓印和刻蝕處理，使得在取光區內形成光柵結構。

2.如權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在取光區內形成光柵結構之后，還包括：

采用剝離工藝去除所述犧牲層。

3.如權利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述采用剝離工藝去除所述犧牲層之后，還包括：

采用剝離工藝去除所述非取光區對應位置處的所述光柵材料層。

4.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述光柵材料層和所述犧牲層的刻蝕選擇比小于1:3。

5.一種采用如權利要求1-4任一項所述的制造方法制成的光柵器件，包括：襯底基板，所述襯底基板包括取光區和非取光區，其特征在于，還包括：位于所述襯底基板上的光柵結構，且所述光柵結構僅設置在所述取光區內；

所述光柵器件還包括：光柵材料層，設置在所述非取光區內的所述襯底基板上；

所述光柵器件還包括：犧牲層，設置在所述光柵材料層上。

6.如權利要求5所述的光柵器件，其特征在于，所述犧牲層的材料包括：金屬材料和反光材料。

7.如權利要求6所述的光柵器件，其特征在于，所述金屬材料為鉻、鉬、銀、鋁中的至少一種；并且

所述反光材料為石墨烯。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求5-7任一項所述的光柵器件。