[發(fā)明專利]絕熱構(gòu)造體和立式熱處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910184953.0
• 申請日: 2019-03-12
• 公開（公告）號: CN110277334B
• 公開（公告）日: 2023-09-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吉井弘治;山口達(dá)也;林寬之;岡田充弘;高木聰;高橋敏彥;莊司正文;北村和也
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本發(fā)明提供一種能夠抑制從晶圓處理區(qū)域向爐口部分的熱移動、熱傳遞的絕熱構(gòu)造體和立式熱處理裝置。一實(shí)施方式的絕熱構(gòu)造體用于立式熱處理裝置，該立式熱處理裝置具備：雙層管構(gòu)造的處理容器，其具有內(nèi)管和上部封閉著的外管，并在下端具有開口；氣體供給部和排氣部，其設(shè)置于所述處理容器的下側(cè)；蓋部，其從所述開口導(dǎo)入和排出基板，并且能夠使所述開口開閉；以及加熱部，其以從外側(cè)覆蓋所述處理容器的方式設(shè)置，該立式熱處理裝置利用所述加熱部對基所述板進(jìn)行熱處理，在所述絕熱構(gòu)造體中，該絕熱構(gòu)造體設(shè)置于所述內(nèi)管與所述外管之間。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種絕熱構(gòu)造體和立式熱處理裝置。

背景技術(shù)

以往，作為半導(dǎo)體制造裝置的其中之一，公知有如下立式熱處理裝置：將沿著高度方向具有間隔地保持著多個(gè)基板的基板保持部向被能夠進(jìn)行高度方向的區(qū)域控制的加熱部包圍著的處理容器內(nèi)輸入，對基板進(jìn)行熱處理(參照例如專利文獻(xiàn)1)。在立式熱處理裝置中，利用保溫筒、歧管加熱器、蓋加熱器等進(jìn)行針對爐口部的散熱對策(參照例如專利文獻(xiàn)1-4)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2012-64804號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

然而，在上述的立式熱處理裝置中，在其構(gòu)造上，來自供基板保持器具輸入的處理容器的下方(爐口)部分的散熱較大，對靠近爐口部分的區(qū)域的加熱器施加比其他區(qū)域的加熱器大的電力。因此，謀求抑制從對處理容器內(nèi)的晶圓進(jìn)行處理的晶圓處理區(qū)域向爐口部分的熱移動、熱傳遞。

因此，在本發(fā)明的一形態(tài)中，目的在于提供一種能夠抑制從晶圓處理區(qū)域向爐口部分的熱移動、熱傳遞的絕熱構(gòu)造體和立式熱處理裝置。

用于解決問題的方案

為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明的一形態(tài)的絕熱構(gòu)造體，其用于立式熱處理裝置，該立式熱處理裝置具備：雙層管構(gòu)造的處理容器，其具有內(nèi)管和上部封閉著的外管，并在下端具有開口；氣體供給部和排氣部，其設(shè)置于所述處理容器的下側(cè)；蓋部，其從所述開口導(dǎo)入和排出基板，并且能夠使所述開口開閉；以及加熱部，其以從外側(cè)覆蓋所述處理容器的方式設(shè)置，該立式熱處理裝置利用所述加熱部對所述基板進(jìn)行熱處理，在所述絕熱構(gòu)造體中，該絕熱構(gòu)造體設(shè)置于所述內(nèi)管與所述外管之間。

發(fā)明的效果

根據(jù)公開的絕熱構(gòu)造體，能夠抑制從晶圓處理區(qū)域向爐口部分的熱移動、熱傳遞。

附圖說明

圖1是表示第1實(shí)施方式的立式熱處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的一個(gè)例子的剖視圖。

圖2是表示圖1的處理容器的圖。

圖3是表示圖1的氣體供給部的圖。

圖4是表示圖1的絕熱構(gòu)造體的立體圖。

圖5是表示第2實(shí)施方式的立式熱處理裝置的絕熱構(gòu)造體的立體圖。

圖6是表示第3實(shí)施方式的立式熱處理裝置的絕熱構(gòu)造體的立體圖。

圖7是表示第4實(shí)施方式的立式熱處理裝置的絕熱構(gòu)造體的立體圖。

圖8是表示絕熱構(gòu)造體的有無與各部的溫度之間的關(guān)系的圖。

圖9是表示絕熱構(gòu)造體的有無與膜成長速度的面間均勻性之間的關(guān)系的圖。

圖10是表示絕熱構(gòu)造體的有無與膜厚的面間均勻性之間的關(guān)系的圖。