[發明專利]一種反射陶瓷電路板及其加工方法有效
| 申請號: | 201910173091.1 | 申請日: | 2019-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN109951947B | 公開(公告)日: | 2023-10-20 |
| 發明(設計)人: | 李國慶 | 申請(專利權)人: | 珠海市航達科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K1/02 | 分類號: | H05K1/02 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 陳慧華 |
| 地址: | 519100 廣東省珠海市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 反射 陶瓷 電路板 及其 加工 方法 | ||
1.一種反射陶瓷電路板,其特征在于:包括陶瓷基板(1)、設置在陶瓷基板(1)上的絕緣層(2)以及設置在絕緣層(2)上的線路層(3),所述陶瓷基板(1)上設置有至少一處覆銅區(4),所述覆銅區(4)向外凸出并依次穿過絕緣層(2)和線路層(3);所述覆銅區(4)上設置有反射層(5)。
2.根據權利要求1所述的一種反射陶瓷電路板,其特征在于:所述絕緣層(2)和線路層(3)位于覆銅區(4)對應位置設置有配合覆銅區(4)外形的通孔。
3.根據權利要求2所述的一種反射陶瓷電路板,其特征在于:所述線路層(3)為BT面板層。
4.根據權利要求2所述的一種反射陶瓷電路板,其特征在于:所述覆銅區(4)的厚度為10-15μm。
5.根據權利要求2所述的一種反射陶瓷電路板,其特征在于:所述反射層(5)為銀膜。
6.一種反射陶瓷電路板加工方法,其特征在于,用于加工如權利要求1-5任一項所述的一種反射陶瓷電路板,包括以下步驟:
步驟1、準備陶瓷基板(1),預處理陶瓷基板(1),并在陶瓷基板(1)的正表面采用PVD真空鍍銅的方式進行鍍銅,形成厚度為1-3μm的銅層;
步驟2、電鍍步驟1中得到的陶瓷基板(1),使銅層的厚度增至10-15μm;
步驟3、采用圖形轉移在銅層表面劃分出需要的部分,并利用化學蝕刻的方法蝕掉銅層表面不需要的部分,得到覆銅區(4);
步驟4、在覆銅區(4)上電鍍銀,得到反射層(5);
步驟5、將絕緣層(2)和線路層(3)位于覆銅區(4)對應位置加工出配合覆銅區(4)的通孔,并在線路層(3)上經過常規PCB線路加工工藝加工出所需的線路;
步驟6、將上述所有步驟得到的陶瓷基板(1)、絕緣層(2)以及線路層(3)依次層疊,經層壓機壓合得到反射陶瓷線路板。
7.根據權利要求6所述的一種反射陶瓷電路板加工方法,其特征在于,步驟1中的預處理陶瓷基板(1)具體為:依次通過酸洗、堿洗以及純水處理陶瓷基板(1)表面上的油污以及雜質。
8.根據權利要求6所述的一種反射陶瓷電路板加工方法,其特征在于,步驟4的具體操作為:
步驟4.1、酸洗和水洗步驟3中得到的陶瓷基板(1),去除陶瓷基板(1)表面的油污和銅銹;
步驟4.2、將上述步驟4.1得到的陶瓷基板(1)浸入含有氯化汞的溶液中,進行汞化處理,使在陶瓷基板(1)上覆銅區(4)鍍上一層汞膜;
步驟4.3、然后將陶瓷基板(1)作陰極,純銀板作陽極,浸入由硝酸銀和氰化鉀所配成的氰化銀鉀電解液中,進行電鍍;
步驟4.4、將步驟4.3得到的陶瓷基板(1)上進行除氫處理和鈍化處理,完成鍍銀處理。
9.根據權利要求8所述的一種反射陶瓷電路板加工方法,其特征在于,步驟4.3中的電鍍液可以是硫代硫酸鹽溶液、亞硫酸鹽溶液、硫氰酸鹽溶液或亞鐵氰化物溶液中的一種或多種的混合物。
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