[發(fā)明專利]一種用于真空泵的前級管道、真空系統(tǒng)及半導(dǎo)體制造設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910173002.3
• 申請日: 2019-03-07
• 公開（公告）號: CN109869314A
• 公開（公告）日: 2019-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 顧穎豪;繆敏敏
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: F04C29/12
• 分類號: F04C29/12;F04C25/02;F04C27/00;H01L21/67;C23C16/44
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭星

1.一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，包括：

主管，豎直安裝；

承接器，設(shè)置在所述主管的底部并具有一開口，所述開口與所述主管的底部密封連接；以及，

支管，為一非直線型管道，且所述支管的一端與所述主管連接，另一端與真空泵連接；其中：

一氣流用于依次通過所述主管和所述支管后進(jìn)入所述真空泵，同時所述承接器用于通過所述開口接收所述氣流在通過所述主管時掉落的物質(zhì)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述主管為一直線型管道。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述承接器具有一內(nèi)腔，所述內(nèi)腔的底部設(shè)置在所述真空泵的進(jìn)口以下位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述內(nèi)腔的深度不小于30cm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述前級管道呈“n”型。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述支管包括依次連接的第一管道、第二管道和第三管道，所述第一管道、第二管道和第三管道均為直線型管道，且所述第一管道與所述主管連接并傾斜向上設(shè)置，所述第二管道水平布置，所述第三管道豎直布置，所述第三管道與所述真空泵連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述主管與所述承接器之間設(shè)置有閥門，且所述支管與所述主管的連接點位于所述閥門的上方，所述閥門用于控制所述主管與所述承接器之間的通斷。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，還包括一密封蓋，所述承接器具有相對的上端和下端，所述上端具有所述開口，同時所述下端也為敞口狀并與所述密封蓋可拆卸地連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述密封蓋為一法蘭。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述承接器具有相對的上端和下端，所述上端具有所述開口，同時所述下端封閉，且所述上端與所述主管可拆卸地連接。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于真空泵的前級管道，其特征在于，所述主管和/或所述支管上設(shè)有加熱裝置，用于加熱對應(yīng)的管道。

12.一種真空系統(tǒng)，其特征在于，包括：

干式真空泵；以及

如權(quán)利要求1-11任一項所述的一種用于真空泵的前級管道；

其中，所述前級管道的所述支管的另一端與所述干式真空泵連接。

13.一種半導(dǎo)體制造設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求12所述的一種真空系統(tǒng)。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的一種半導(dǎo)體制造設(shè)備，其特征在于，所述半導(dǎo)體制造設(shè)備為化學(xué)氣相沉積設(shè)備，且所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備還包括一反應(yīng)腔室，所述前級管道的所述主管與所述反應(yīng)腔室連通。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的一種半導(dǎo)體制造設(shè)備，其特征在于，所述半導(dǎo)體制造設(shè)備為刻蝕設(shè)備，且所述刻蝕設(shè)備還包括一刻蝕腔室，所述前級管道的所述主管與所述刻蝕腔室連通。