[發明專利]一種二極管整流器件生產系統在審
| 申請號: | 201910163517.5 | 申請日: | 2019-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN109841546A | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發明(設計)人: | 李杰 | 申請(專利權)人: | 蘇州旭芯翔智能設備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 蘇州慧通知識產權代理事務所(普通合伙) 32239 | 代理人: | 丁秀華 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二極管整流器 生產系統 晶粒 固定單元 焊接單元 進料單元 焊接 人力資源 生產效率 錫膏印刷 印刷單元 運輸單元 涂印 錫膏 運輸 生產 | ||
1.一種二極管整流器件生產系統,二極管整流器件包括框架和焊接在框架上是晶粒,其特征在于:所述二極管整流器件生產系統包括用于所述框架進料的進料單元(1)、用于焊接所述框架的焊接單元(5)、與所述進料單元(1)相連的用于在所述框架上涂印錫膏的印刷單元(2)、與所述焊接單元(5)相連的用于將晶粒固定在所述框架上的固定單元(4)以及設置在所述錫膏印刷單元(2)和固定單元(4)之間的用于運輸所述框架的運輸單元(3)。
2.按照權利要求1所述二極管整流器件生產系統,其特征在于:所述進料單元(1)包括第一無桿氣缸(11)、安裝在所述第一無桿氣缸(11)上的框架放置平臺(12)以及與所述框架放置平臺(12)相連的框架轉移機構(13),所述框架放置在所述框架放置平臺(12)上,所述框架轉移機構(13)將放置在所述框架放置平臺(12)上的框架運輸到所述印刷單元(2)。
3.按照權利要求2所述二極管整流器件生產系統,其特征在于:所述框架轉移機構(13)包括第一伺服滑臺(131)、設置在所述第一伺服滑臺(131)上的第二伺服滑臺(132)以及設置在所述第二伺服滑臺(132)上的吸盤組件(133),所述吸盤組件(133)吸取所述框架,并在所述第一伺服滑臺(131)和第二伺服滑臺(132)上滑動調整位置,將所述框架運輸到所述印刷單元(2)。
4.按照權利要求1所述二極管整流器件生產系統,其特征在于:所述印刷單元(2)包括鋼網印刷機構(21)、印刷檢測機構(22)、第三伺服滑臺(23)以及安裝在所述第三伺服滑臺(23)上的框架承載平臺(24),所述框架承載平臺(24)放置有所述進料單元(1)運輸的框架,所述框架承載平臺(24)通過所述第三伺服滑臺(23)將框架運送至所述鋼網印刷機構(21)進行錫膏涂印,所述框架承載平臺(24)通過所述第三伺服滑臺(23)將框架運送至所述印刷檢測機構(22)進行錫膏涂印效果檢測。
5.按照權利要求1所述二極管整流器件生產系統,其特征在于:所述框架包括上框架(71)和下框架(72),所述固定單元(4)包括放置所述下框架(72)的下框架承載平臺(41)、放置所述上框架(71)的上框架承載平臺(42)以及驅動所述上框架承載平臺(42)旋轉的旋轉機構(43),所述旋轉機構(43)驅動所述上框架承載平臺(42)旋轉使所述上框架(71)與所述下框架(72)疊加在一起。
6.按照權利要求5所述二極管整流器件生產系統,其特征在于:所述運輸單元(3)包括機械手臂(31),所述機械手臂(31)分別將所述上框架(71)和下框架(72)從所述印刷單元(2)運送至所述上框架承載平臺(42)和下框架承載平臺(41)。
7.按照權利要求5所述二極管整流器件生產系統,其特征在于:所述固定單元(4)還包括放置有所述晶粒的下框架晶粒搖盤承載平臺(44)以及設置在所述下框架承載平臺(41)與所述下框架晶粒搖盤承載平臺(44)之間的下框架晶粒吸取機構(45),所述下框架晶粒吸取機構(45)包括第四伺服滑臺(451)、設置在所述第四伺服滑臺(451)上的第五伺服滑臺(452)以及設置在所述第五伺服滑臺(452)上的第一吸取組件(453),所述第一吸取組件(453)吸取所述晶粒,并在所述第四伺服滑臺(451)和第五伺服滑臺(452)上滑動調整位置,將所述晶粒運輸到所述下框架承載平臺(41)。
8.按照權利要求5所述二極管整流器件生產系統,其特征在于:所述固定單元(4)還包括放置有所述晶粒的上框架晶粒搖盤承載平臺(46)以及設置在所述上框架承載平臺(42)與所述上框架晶粒搖盤承載平臺(46)之間的上框架晶粒吸取機構(47),所述上框架晶粒吸取機構(47)包括第六伺服滑臺(471)、設置在所述第六伺服滑臺(471)上的第七伺服滑臺(472)以及設置在所述第七伺服滑臺(472)上的第二吸取組件(473),所述第二吸取組件(473)吸取所述晶粒,并在所述第六伺服滑臺(471)和第七伺服滑臺(472)上滑動調整位置,將所述晶粒運輸到所述上框架承載平臺(42)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





