[發(fā)明專利]光學(xué)發(fā)射光譜儀的校準(zhǔn)器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910160116.4 | 申請日: | 2019-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN110320183A | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 文丁一;李衡周;宣鐘宇;具滋明;黃載雄;安宗煥 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社;細(xì)美事有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/63 | 分類號: | G01N21/63 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 尹淑梅;劉美華 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 等離子體腔室 校準(zhǔn) 校準(zhǔn)器 參考光源 控制器 參考光 光譜 等離子體處理設(shè)備 等離子體處理 光學(xué)發(fā)射光譜 等離子體室 光譜儀 光學(xué)發(fā)射 可拆卸 入射 拆卸 照射 | ||
1.一種光學(xué)發(fā)射光譜儀的校準(zhǔn)器,所述校準(zhǔn)器包括:
蓋,被配置為與等離子體腔室的頂板可拆卸地結(jié)合;
參考光源,位于蓋處,參考光源被配置為通過等離子體腔室向光學(xué)發(fā)射光譜儀照射參考光;以及
控制器,被配置為通過將入射到光學(xué)發(fā)射光譜儀的參考光的光譜與在等離子體腔室中執(zhí)行的等離子體處理期間入射到光學(xué)發(fā)射光譜儀的實(shí)際光的光譜進(jìn)行比較,來校準(zhǔn)光學(xué)發(fā)射光譜儀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)器,其中,參考光源位于蓋的外表面上以定位在等離子體腔室的外部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的校準(zhǔn)器,所述校準(zhǔn)器還包括:
鏡子,位于蓋下方,鏡子相對于豎直方向傾斜,鏡子被配置為將在豎直方向上入射到等離子體腔室的參考光朝向等離子體腔室的側(cè)壁處的視口反射。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的校準(zhǔn)器,其中,鏡子包括:
上端,高于等離子體腔室中的靜電卡盤定位;以及
下端,低于靜電卡盤定位。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的校準(zhǔn)器,所述校準(zhǔn)器還包括:
漫射器,被配置為使已經(jīng)反射的參考光漫射。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的校準(zhǔn)器,所述校準(zhǔn)器還包括:
準(zhǔn)直器,被配置為沿水平方向引導(dǎo)由漫射器漫射的參考光。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的校準(zhǔn)器,所述校準(zhǔn)器還包括:
透鏡,被配置為聚集由漫射器漫射的參考光。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)器,其中,蓋包括至少兩個第一銷孔,所述至少兩個第一銷孔被配置為容納安裝在等離子體腔室的上端處的至少兩個銷。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)器,其中,所述至少兩個第一銷孔共線并且位于蓋的直徑上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的校準(zhǔn)器,其中,蓋還包括位于所述至少兩個第一銷孔內(nèi)側(cè)的至少兩個第二銷孔,所述至少兩個第二銷孔共線并且位于蓋的直徑上。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)器,其中,蓋的面上的顏色是黑色的,蓋被配置為在等離子體腔室中形成暗室。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)器,其中,參考光源位于蓋的內(nèi)表面上,以定位在等離子體腔室的內(nèi)部。
13.一種光學(xué)發(fā)射光譜儀的校準(zhǔn)器,所述校準(zhǔn)器包括:
蓋,被配置為與等離子體腔室的頂板附接和拆卸;
參考光源,位于蓋處,參考光源被配置為通過等離子體腔室向光學(xué)發(fā)射光譜儀照射參考光;
鏡子,位于蓋下方,鏡子相對于豎直方向傾斜,鏡子被配置為將在豎直方向上入射到等離子體腔室的參考光朝向視口反射,視口處于等離子體腔室的側(cè)壁處;
漫射器,被配置為使從鏡子反射的參考光漫射;
準(zhǔn)直器,被配置為沿水平方向引導(dǎo)由漫射器漫射的參考光;以及
控制器,被配置為通過將穿過準(zhǔn)直器入射到光學(xué)發(fā)射光譜儀的參考光的光譜與在等離子體腔室中執(zhí)行的等離子體處理期間入射到光學(xué)發(fā)射光譜儀的實(shí)際光的光譜進(jìn)行比較,來校準(zhǔn)光學(xué)發(fā)射光譜儀。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的校準(zhǔn)器,其中,鏡子包括:
上端,被配置為高于等離子體腔室中的靜電卡盤定位;以及
下端,被配置為低于靜電卡盤定位。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的校準(zhǔn)器,其中,蓋包括至少兩個第一銷孔,所述至少兩個第一銷孔被配置為容納至少兩個銷,所述至少兩個銷安裝在等離子體腔室的上端處。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的校準(zhǔn)器,其中,所述至少兩個第一銷孔共線并且位于蓋的直徑上。
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