[發明專利]光學防偽元件及防偽產品有效
| 申請號: | 201910152315.0 | 申請日: | 2019-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN111619262B | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發明(設計)人: | 曲欣;張寶利;朱軍 | 申請(專利權)人: | 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司 |
| 主分類號: | B42D25/324 | 分類號: | B42D25/324 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司 11283 | 代理人: | 肖冰濱;王曉曉 |
| 地址: | 100070 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 防偽 元件 產品 | ||
本發明實施例提供一種光學防偽元件及防偽產品,屬于光學防偽領域。所述光學防偽元件包括:基材,該基材包括相互對立的第一表面和第二表面;至少部分覆蓋所述第一表面的第一微浮雕結構,所述第一微浮雕結構包括第一微透鏡陣列和第一微圖文陣列;以及至少部分覆蓋所述第二表面的第二微浮雕結構,所述第二微浮雕結構包括第二微透鏡陣列和第二微圖文陣列,其中所述第一微透鏡陣列能夠對所述第二微圖文陣列進行采樣合成,從而形成第一再現圖像,所述第二微透鏡陣列能夠對所述第一微圖文陣列進行采樣合成,從而形成第二再現圖像。其使得可以分別從基材兩側觀察到采樣放大后的再現圖像。
技術領域
本發明涉及光學防偽領域,具體地,涉及一種光學防偽元件及防偽產品。
背景技術
由于光學防偽元件具有獨特的視覺效果和易識別性,所以被廣泛應用于鈔票、信用卡、護照和有價證券等高安全產品以及其他高附加值產品中。
微透鏡陣列防偽技術利用微透鏡作為微采樣工具對相應的微圖文進行采樣,通過設計不同觀察角度下的采樣點,呈現具有動畫效果的、人眼可見的動感放大圖像。CN101563640A、CN101120139A、US5712731A、CN102958705A等專利文獻中公開了同一類在基材的兩個表面分別帶有微透鏡陣列和微圖文陣列的防偽元件,這一類防偽元件只能從基材的一側觀察,通過微透鏡陣列對微圖文陣列的莫爾放大再現具有一定景深或具有動態效果的圖案,無法從另一側(微圖文陣列側)觀察特征。
CN101563640A同時公開了兩側觀察的實施例,基材兩個表面分別有微透鏡陣列和微圖文陣列,再將兩層基材或三層基材復合。這種結構的防偽元件缺陷在于:(1)制版工藝繁復,需要分別制作多塊不同表面上的微透鏡陣列、微圖文陣列原版;(2)在生產過程中,需要多次解決微透鏡陣列和微圖文陣列的對位問題,工藝更加復雜,可控性差;(3)防偽元件厚度大大增加,不利于一些高安全產品的設計應用。
發明內容
本發明實施例的目的是提供一種光學防偽元件及防偽產品,用于解決或至少部分解決上述技術問題。
為了實現上述目的,本發明實施例提供一種光學防偽元件,該光學防偽元件包括:基材,該基材包括相互對立的第一表面和第二表面;至少部分覆蓋所述第一表面的第一微浮雕結構,所述第一微浮雕結構包括第一微透鏡陣列和第一微圖文陣列;以及至少部分覆蓋所述第二表面的第二微浮雕結構,所述第二微浮雕結構包括第二微透鏡陣列和第二微圖文陣列,其中所述第一微透鏡陣列能夠對所述第二微圖文陣列進行采樣合成,從而形成第一再現圖像,所述第二微透鏡陣列能夠對所述第一微圖文陣列進行采樣合成,從而形成第二再現圖像。
相應的,本發明實施例還提供一種使用上述的光學防偽元件的防偽產品。
本發明實施例提供的光學防偽元件和使用該光學防偽元件的防偽產品包括基材和基材兩個表面上的微浮雕結構,微浮雕結構包括微透鏡陣列和微圖文陣列,兩個表面上的微透鏡陣列分別對另一個表面的微圖文陣列采樣放大,形成再現圖案,其具有以下優點:(1)可以分別從基材兩側觀察到采樣放大后的再現圖像,比只能從單一一側觀察具有更好的防偽性能和視覺效果;(2)一個表面上的微透鏡陣列和微圖文陣列制作在同一張原版上,對于能夠兩側觀察的防偽元件,減少了原版制作數量和復雜程度;(2)在生產時,只需要解決一次對位,工藝難度與單側觀察的防偽元件相同,工藝流程簡單;(3)該防偽元件由于不增加微透鏡或微圖文陣列總層數、基材層數,因此厚度與單側觀察的元件相比沒有增加,適合多種形式防偽產品應用。
本發明實施例的其它特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。
附圖說明
附圖是用來提供對本發明實施例的進一步理解,并且構成說明書的一部分,與下面的具體實施方式一起用于解釋本發明實施例,但并不構成對本發明實施例的限制。在附圖中:
圖1示出了根據本發明一種實施方式的光學防偽元件的剖面圖;
圖2a至圖2d示出了不同類型的微圖文陣列的示意圖;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司,未經中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910152315.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





