[發明專利]光學防偽元件及防偽產品

有效

• 申請號: 201910152315.0
• 申請日: 2019-02-28
• 公開（公告）號: CN111619262B
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 曲欣;張寶利;朱軍
• 申請（專利權）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: B42D25/324
• 分類號: B42D25/324
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 肖冰濱;王曉曉

1.一種光學防偽元件，該光學防偽元件包括：

基材，該基材包括相互對立的第一表面和第二表面；

至少部分覆蓋所述第一表面的第一微浮雕結構，所述第一微浮雕結構包括第一微透鏡陣列和第一微圖文陣列；以及

至少部分覆蓋所述第二表面的第二微浮雕結構，所述第二微浮雕結構包括第二微透鏡陣列和第二微圖文陣列，

其中所述第一微透鏡陣列能夠對所述第二微圖文陣列進行采樣合成，從而形成第一再現圖像，所述第二微透鏡陣列能夠對所述第一微圖文陣列進行采樣合成，從而形成第二再現圖像，

其中，所述第一微圖文陣列全部或部分重疊在所述第一微透鏡陣列的表面上；和/或

所述第二微圖文陣列全部或部分重疊在所述第二微透鏡陣列的表面上。

2.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，所述第一微透鏡陣列和/或所述第二微透鏡陣列為由多個微透鏡單元構成的以下一者或多者：非周期性陣列、隨機性陣列、周期性陣列、或局部周期性陣列。

3.根據權利要求2所述的光學防偽元件，其中，所述微透鏡單元為折射型微透鏡和/或衍射型微透鏡，

其中，所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列采用相同或不同類型的微透鏡單元。

4.根據權利要求2所述的光學防偽元件，其中，所述微透鏡單元的焦距為5微米至200微米。

5.根據權利要求4所述的光學防偽元件，其中，所述微透鏡單元的焦距為10微米至100微米。

6.根據權利要求1所述光學防偽元件，其中，所述第一微圖文陣列和/或所述第二微圖文陣列采用的表面微結構由以下一者或多者構成：衍射微浮雕結構、非衍射的微浮雕結構、散射結構。

7.根據權利要求6所述的光學防偽元件，其中，所述表面微結構為一個或多個連續曲面結構、一個或多個矩形結構、一個或多個鋸齒形棱鏡或它們的拼接或組合。

8.根據權利要求1所述光學防偽元件，其中，所述第一微圖文陣列和/或所述第二微圖文陣列為由多個微圖文單元構成的以下一者或多者：非周期性陣列、隨機性陣列、周期性陣列、或局部周期性陣列。

9.根據權利要求8所述光學防偽元件，其中，所述微圖文單元由以下一者或多者構成：凸起型微圖文單元、凹陷型微圖文單元、起伏浮雕單元、或周期性起伏光柵微圖文單元，

其中，所述第一微圖文陣列和所述第二微圖文陣列采用相同或不同類型的微圖文單元。

10.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，周期性或局部周期性的所述第一微透鏡陣列、所述第二微透鏡陣列、所述第一微圖文陣列、所述第二微圖文陣列的周期為5微米至200微米。

11.根據權利要求10所述的光學防偽元件，其中，周期性或局部周期性的所述第一微透鏡陣列、所述第二微透鏡陣列、所述第一微圖文陣列、所述第二微圖文陣列的周期為20微米至100微米。

12.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，

所述第一微浮雕結構和所述第二微浮雕結構的加工深度小于30微米；和/或

所述第一微透鏡陣列和所述第二微透鏡陣列的高度不大于20微米；和/或

所述第一微圖文陣列和所述第二微圖文陣列的加工深度為0.2微米至10微米。

13.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，還包括：涂布在所述第一微浮雕結構和/或所述第二微浮雕結構的表面的保護層或粘結層。

14.根據權利要求13所述的光學防偽元件，其中，所述保護層或粘結層至少是半透明的。

15.根據權利要求13所述的光學防偽元件，其中，所述保護層或粘結層能夠用于增加顏色效果。

16.一種使用根據權利要求1至15中任一項權利要求所述的光學防偽元件的防偽產品。