[發明專利]光學測量池、光學分析儀和光學測量池的制造方法在審
| 申請號: | 201910133464.2 | 申請日: | 2019-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN110231290A | 公開(公告)日: | 2019-09-13 |
| 發明(設計)人: | 中原達也;世古朋子 | 申請(專利權)人: | 株式會社堀場先進技術 |
| 主分類號: | G01N21/05 | 分類號: | G01N21/05;G01N21/03;G01N21/09;G01N21/59 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290 | 代理人: | 周善來;李雪春 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透光構件 光學測量 按壓構件 覆蓋膜 光透射區域 光學分析儀 密封構件 射入 壓光 檢測液體 試樣接觸 光射出 射出 收容 制造 剝離 覆蓋 | ||
本發明提供光學測量池、光學分析儀和光學測量池的制造方法。為了在透光構件上形成防止與試樣接觸的覆蓋膜并防止覆蓋膜剝離,光學測量池包括夾著收容被檢測液體的內部空間的第一透光構件和第二透光構件,射入第一透光構件的光通過內部空間并從第二透光構件射出,其還包括:第一按壓構件,在第一透光構件的朝向光射入側的向外的面上按壓光透過的光透射區域的周圍;第二按壓構件,在第二透光構件的朝向光射出側的向外的面上按壓光透過的光透射區域的周圍;密封構件,介于第一透光構件和第一按壓構件之間、第二透光構件和第二按壓構件之間,在各透光構件的表面的除了一部分以外的區域上覆蓋有覆蓋膜,覆蓋膜的端部位于比密封構件更靠光透射區域側。
技術領域
本發明涉及用于例如在半導體等的制造工序中測量氫氟酸(HF)等藥液的濃度等的光學測量池、使用該光學測量池的光學分析儀和該光學測量池的制造方法。
背景技術
如專利文獻1所示,這種光學測量池與半導體制造裝置的藥液配管連接,藥液通過內部空間,該光學測量池具有夾著該內部空間的一對光學窗。此外,向該光學測量池的一個光學窗照射測量光,從另一個光學窗射出的透射光被光檢測器接收。由此,根據在光學測量池內流動的藥液的透射光強度,計算包含在該藥液中的規定成分的濃度等并進行向應設定的藥液濃度去的濃度控制。
以往,在該光學測量池中,形成一對光學窗的透光構件使用石英,或者在藥液是能溶解石英的氫氟酸(HF)等的情況下使用藍寶石。
但是,即使作為透光構件使用石英或藍寶石中的一種,包含在該透光構件中主成分(Si或Al)也會溶解在藥液中而產生污染物(污染)。
專利文獻1:日本專利公開公報特開2016-1135號
在此,為了實現抑制污染物,本發明人研究了在透光構件的表面例如利用氟涂層等形成覆蓋膜。
但是,在將透光構件配置在室(chamber)內并利用例如蒸鍍等在透光構件的表面形成氟涂層等的情況下,顯然不能使透光構件漂浮在空中,需要利用支承件支承透光構件的某個部位從而不能在該支承件接觸的部位形成覆蓋膜。
其結果,在透光構件的表面出現被覆蓋膜覆蓋的區域與未被覆蓋膜覆蓋的區域的邊界,覆蓋膜從位于該邊界部分的覆蓋膜的端部剝離,有損于上述污染物的抑制效果
發明內容
本發明是用于解決上述問題而做出的發明,本發明的主要目的在于在透光構件的表面形成防止與藥液等試樣接觸的覆蓋膜,并且防止該覆蓋膜剝離。
即,本發明提供一種光學測量池,其包括夾著收容被檢測液體的內部空間的第一透光構件和第二透光構件,構成為射入所述第一透光構件的光通過所述內部空間并從所述第二透光構件射出,所述光學測量池還包括:第一按壓構件,在所述第一透光構件的朝向光射入側的向外的面上按壓所述光透過的光透射區域的周圍;第二按壓構件,在所述第二透光構件的朝向光射出側的向外的面上按壓所述光透過的光透射區域的周圍;以及密封構件,介于所述第一透光構件和所述第一按壓構件之間、以及所述第二透光構件和所述第二按壓構件之間,在所述第一透光構件和所述第二透光構件的表面的除了一部分以外的區域上覆蓋有覆蓋膜,所述覆蓋膜的端部位于比所述密封構件更靠所述光透射區域側。
按照以上述方式構成的光學測量池,由于覆蓋膜的端部位于比密封構件更靠光透射區域側,所以透光構件的表面的被檢測液體能夠接觸的區域被覆蓋膜覆蓋,實現了抑制污染物。
此外,由于覆蓋膜的端部位于密封構件的光透射區域側,所以能夠通過按壓構件按壓覆蓋膜。由此,如果按壓覆蓋膜的端部,則能夠防止覆蓋膜從端部剝離。此外,覆蓋膜的端部位于比按壓構件更靠光透射區域側,即使該端部未被按壓而發生剝離,也能夠利用被按壓的部分使該剝離的進展停止,因此能夠防止覆蓋膜進一步剝離。
由此,按照上述的光學測量池,能夠在透光構件上形成防止與藥液等被檢測液體接觸的覆蓋膜,并且能夠防止該覆蓋膜剝離。
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