[發明專利]光學測量池、光學分析儀和光學測量池的制造方法

在審

• 申請號: 201910133464.2
• 申請日: 2019-02-22
• 公開（公告）號: CN110231290A
• 公開（公告）日: 2019-09-13
• 發明（設計）人: 中原達也;世古朋子
• 申請（專利權）人: 株式會社堀場先進技術
• 主分類號: G01N21/05
• 分類號: G01N21/05;G01N21/03;G01N21/09;G01N21/59
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 周善來;李雪春

1.一種光學測量池，其包括夾著收容被檢測液體的內部空間的第一透光構件和第二透光構件，構成為射入所述第一透光構件的光通過所述內部空間并從所述第二透光構件射出，

所述光學測量池的特征在于，

所述光學測量池還包括：

第一按壓構件，在所述第一透光構件的朝向光射入側的向外的面上按壓所述光透過的光透射區域的周圍；

第二按壓構件，在所述第二透光構件的朝向光射出側的向外的面上按壓所述光透過的光透射區域的周圍；以及

密封構件，介于所述第一透光構件和所述第一按壓構件之間、以及所述第二透光構件和所述第二按壓構件之間，

在所述第一透光構件和所述第二透光構件的表面的除了一部分以外的區域上覆蓋有覆蓋膜，所述覆蓋膜的端部位于比所述密封構件更靠所述光透射區域側。

2.根據權利要求1所述的光學測量池，其特征在于，所述覆蓋膜覆蓋在至少除了所述光透射區域以外的區域上。

3.根據權利要求1所述的光學測量池，其特征在于，所述覆蓋膜是在所述第一透光構件和所述第二透光構件的表面未通過底涂層形成的氟系樹脂覆蓋膜。

4.根據權利要求1所述的光學測量池，其特征在于，底涂層介于所述第一透光構件和所述第二透光構件的表面的與所述光透射區域不同的區域和所述覆蓋膜之間。

5.根據權利要求1所述的光學測量池，其特征在于，

所述光學測量池還包括間隔件，所述間隔件介于所述第一透光構件和所述第二透光構件之間，與所述第一透光構件和所述第二透光構件一起形成所述內部空間，

所述間隔件與所述第一透光構件和所述第二透光構件中的至少一方一體地設置。

6.一種光學分析儀，其特征在于，

所述光學分析儀具有：

權利要求1所述的光學測量池；

光照射部，對所述光學測量池照射光；以及

光檢測部，檢測透過了所述光學測量池的光。

7.一種光學測量池的制造方法，所述光學測量池包括：第一透光構件和第二透光構件，夾著收容被檢測液體的內部空間；第一按壓構件，在所述第一透光構件的朝向光射入側的向外的面上按壓所述光透過的光透射區域的周圍；第二按壓構件，在所述第二透光構件的朝向光射出側的向外的面上按壓所述光透過的光透射區域的周圍；以及密封構件，介于所述第一透光構件和所述第一按壓構件之間、以及所述第二透光構件和所述第二按壓構件之間，

所述光學測量池的制造方法的特征在于，

在所述第一透光構件和所述第二透光構件的表面的除了一部分以外的區域上覆蓋覆蓋膜，使所述覆蓋膜的端部位于比所述密封構件更靠所述光透射區域側。