[發明專利]光罩曝光控制方法

有效

• 申請號: 201910131385.8
• 申請日: 2019-02-22
• 公開（公告）號: CN109739072B
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發明（設計）人: 杜武兵;林偉;司繼偉
• 申請（專利權）人: 深圳市路維光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市翼智博知識產權事務所(普通合伙) 44320
• 代理人: 黃莉

本發明實施例涉及一種光罩曝光控制方法，包括：獲得多品種無規則混合排版的光罩的整版圖形；分析整版圖形，將整版圖形劃分為若干個圖形區和共用信息區，具有相同排版規則的圖形劃分在同一個圖形區內，共用信息區包含有所述若干個圖形區共用的信息的圖形；以每個圖形區作為一個曝光區，共用信息區單獨作為一個曝光區或者將共用信息區與其中一個圖形區合并為一個曝光區，針對每個曝光區一一對應地生成曝光文件；確定每個曝光區適用的mura控制參數；逐一調取各曝光區的曝光文件及相應的mura控制參數，對同一張空白版材進行重復曝光作業。本發明實施例能有效控制mura現象的發生，提高了光罩生產效率和良率，圖形處理簡單，減小光罩開模套數，節省成本。

技術領域

本發明實施例涉及光罩制造技術領域，尤其涉及一種光罩曝光控制方法。

背景技術

光罩上產生mura（mura是指顯示器亮度不均勻，造成各種痕跡）現象的原因主要是由于光罩上有規律性的線條不均(uniform差）或掃描位置偏移（sweeplength erro)導致，由光刻機在曝光過程中產生。

目前，大部分大尺寸光罩都是由逐行掃描式激光光刻機生產，其主要生產廠家有瑞典Mycronic mydata和德國Heidelberg兩家公司生產。其主流機型分別為LRS系列、FPS系列和VPG系列，其產生的mura均為規律性的條紋，且條紋均是平行于曝光方向。

下面以Mycronic mydata公司的FPS系列機型為例詳細分析mura產生的原因：FPS曝光原理如下：工作站（workstation）將需曝光圖檔柵格化（見圖1），并平均分成一條條光刻帶（strip），每條光刻帶的寬度為870 pixel，由于光刻設備每畫一條光刻帶后需定位一次，每次定位會有一定的誤差，為保證兩條光刻帶之間的拼接不會因為定位誤差導致圖形錯位或漏曝光，設定了重疊區域（overlap），見圖2，寬度通常為30 pixel，為設備出廠時設定的最小優化值，不可更改。

由于在重疊區域，兩條光刻帶之間的能量會在此處相互影響，導致此區域的能量分布不均勻，最終結果就是該重疊區域的線條質量會差于非重疊區域的線條質量。要改善線條不均導致的mura現象，就需要想辦法使重疊區域的能量分布盡可能的均勻或者盡可能的落在空白區域。如果可以使overlap區域完全落在空白區域，則這種規則性的mura即可完全消除。

目前，大尺寸高解析度TFT LCD、AMOLED用光罩制造設備，自身帶有mura控制功能，只需根據光罩圖形的間距（pitch）值，通過測試，找到一個最佳mura控制參數；然后在曝光該正式光罩產品時，設定好相應的參數，即可達到優化mura的目的；但是，現有的這種設備只能對整版是單一品種且排版很規則的圖形才適用；即便是當前最先進的光刻設備，也只能針對規則排版的光罩，根據單元內圖形的間距值及單元與單元之間的間距值，通過測試確定一套最佳的mura控制參數進而實現有效曝光加工，對于多品種無規則混排的光罩，則無能為力，無法滿足多品種光罩無規則拼版曝光加工的現實需求。

發明內容

本發明實施例要解決的技術問題在于，提供一種光罩曝光控制方法，以便能對多品種無規則混排的光罩進行有效曝光并改善mura現象。

為解決上述技術問題，本發明實施例采用以下技術方案：一種光罩曝光控制方法，包括以下步驟：

獲得多品種無規則混合排版的光罩的整版圖形；

分析所述整版圖形，將整版圖形劃分為若干個圖形區和共用信息區，具有相同排版規則的圖形劃分在同一個圖形區內，所述共用信息區包含有所述若干個圖形區共用的信息的圖形；

以每個圖形區作為一個曝光區，所述共用信息區單獨作為一個曝光區或者將所述共用信息區與其中一個圖形區合并為一個曝光區，針對每個曝光區一一對應地生成曝光文件；

確定每個曝光區適用的mura控制參數；