[發明專利]一種紫光光源及其制備方法、以及光學設備

有效

• 申請號: 201910131005.0
• 申請日: 2019-02-20
• 公開（公告）號: CN109862668B
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 儲漢奇
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H05B33/14
• 分類號: H05B33/14;H05B33/20;H05B33/02;H05B33/10
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 莎日娜

本發明提供了一種紫光光源及其制備方法、以及光學設備，涉及光學技術領域。其中，該紫光光源包括襯底、形成在襯底上的紫光發光層、第一電極和第二電極，第一電極與紫光發光層粘接，第二電極與襯底粘接，紫光發光層包括形成在襯底上的鎢薄膜和形成在鎢薄膜上的氧化鋁薄膜。在本發明實施例中，當在第一電極和第二電極之間施加電壓時，由摻雜鎢材料的氧化鋁制成的紫光發光層可以發出純度較高的紫光，可以滿足光學設備的紫光需求。另外，由于紫光發光層摻雜有鎢材料，因此可以提升氧化鋁的結晶程度，提高了氧化鋁薄膜的發光強度，此外，在氧化鋁薄膜與襯底之間設置鎢薄膜，還可以提高紫光發光層與襯底的結合力，提高了紫光光源的使用壽命。

技術領域

本發明涉及光學技術領域，特別是涉及一種紫光光源及其制備方法、以及光學設備。

背景技術

紫光波段是人類肉眼可見的光波波段，紫光的波長范圍約為400-450納米，波段接近紫外光。在實際生活中，紫光有著十分廣泛的應用場景，例如可以用于點鈔驗鈔、防偽檢測、滅蚊誘蟲、美容美甲、無痕檢測、光催化，以及材料的分析測試等，因此，在此類基于紫光的光學設備中，通常需要配置發光純度較高的紫色光源。

發明內容

本發明提供一種紫光光源及其制備方法、以及光學設備，以滿足實際應用中的紫光需求。

為了解決上述問題，本發明公開了一種紫光光源，包括襯底、紫光發光層、第一電極和第二電極，所述紫光發光層形成在所述襯底上，所述第一電極與所述紫光發光層背離所述襯底的一側粘接，所述第二電極與所述襯底背離所述紫光發光層的一側粘接，所述紫光發光層包括形成在所述襯底上的鎢薄膜和形成在所述鎢薄膜上的氧化鋁薄膜。

可選地，所述鎢薄膜與所述氧化鋁薄膜之間的質量比大于或等于1∶4.5，且小于或等于1∶5.5。

可選地，所述紫光發光層的厚度大于或等于500納米，且小于或等于1微米。

可選地，所述襯底的材料包括單晶硅或玻璃。

為了解決上述問題，本發明還公開了一種紫光光源的制備方法，該方法包括：

提供一襯底、第一電極和第二電極；

在所述襯底上形成紫光發光層；所述紫光發光層包括形成在所述襯底上的鎢薄膜和形成在所述鎢薄膜上的氧化鋁薄膜；

將所述第一電極與所述紫光發光層背離所述襯底的一側粘接，以及將所述第二電極與所述襯底背離所述紫光發光層的一側粘接，獲得紫光光源。

可選地，所述在所述襯底上形成紫光發光層，包括：

將鎢靶材、鋁靶材和所述襯底置于濺射腔室中；

在通入氧氣和氬氣的濺射腔室中，通過磁控濺射工藝對所述鎢靶材進行濺射，以在所述襯底上形成鎢薄膜；

對所述鋁靶材進行濺射，以在所述鎢薄膜上形成氧化鋁薄膜；

在氬氣條件下對所述鎢薄膜和所述氧化鋁薄膜進行退火處理，獲得紫光發光層。

可選地，所述氧氣與所述氬氣之間的體積比大于或等于0.8∶20，且小于或等于2∶20。

可選地，所述磁控濺射工藝在直流電壓條件下對應的濺射功率為60瓦特，所述磁控濺射工藝對應的濺射腔室氣壓為0.5帕斯卡。

為了解決上述問題，本發明還公開了一種光學設備，包括上述紫光光源。

與現有技術相比，本發明包括以下優點：