[發明專利]一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架

在審

• 申請號: 201910119635.6
• 申請日: 2019-02-18
• 公開（公告）號: CN109652776A
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發明（設計）人: 孟鑫沛;雷芳;張燕琴
• 申請（專利權）人: 東莞職業技術學院
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/50;C23C14/54
• 代理公司: 北京集智東方知識產權代理有限公司 11578
• 代理人: 孫文彬

本發明公開了離子鍍膜設備技術領域的一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架，包括支架箱體，所述支架箱體中安裝有承托板和加熱設備，所述承托板和加熱設備配套設置相同數量，進行上下堆疊排布，所述承托板的上表面安裝有活動卡夾，所述活動卡夾在承托板上對稱設置，兩排所述活動卡夾對鍍膜工件進行夾持固定，本發明便于對鍍膜工件進行快速固定夾持，多個鍍膜工件進行同時烘烤加熱，且加熱時烘烤板可根據需要調整與鍍膜工件之間的烘烤距離，可進行同時調節，便于保證鍍膜工件烘烤時間，溫度，以及均勻度的一致性，保證產品的質量。

技術領域

本發明涉及離子鍍膜設備技術領域，具體為一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架。

背景技術

PIP是可控離子滲入技術，是一種黑色金屬表面鹽浴復合增強技術，該技術廣泛的適用于提升低合金鋼和不銹鋼的耐磨和耐蝕性能。離子鍍是在真空蒸發鍍和濺射鍍膜的基礎上發展起來的一種鍍膜新技術，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領域，整個氣相沉積過程都是在等離子體中進行的。離子鍍大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優異性能的膜層，擴大了“薄膜”的應用領域。

廣義來講，離子鍍膜的特點是：鍍膜時，工件(基片)帶負偏壓，工件始終受高能離子的轟擊。形成膜層的膜基結合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數多、膜層粒子總體能量高，容易進行反應沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層。在進行離子鍍膜工序中需要對工件進行加熱烘烤，一般的烘烤加熱材料烘烤時間和受熱不均，影響加熱工序的工序質量。

基于此，本發明設計了一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架，以解決上述問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架，以解決上述背景技術中提出的在進行離子鍍膜工序中需要對工件進行加熱烘烤，一般的烘烤加熱材料烘烤時間和受熱不均，影響加熱工序的工序質量的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架，包括支架箱體，所述支架箱體中安裝有承托板和加熱設備，所述承托板和加熱設備配套設置相同數量，進行上下堆疊排布，所述承托板的上表面安裝有活動卡夾，所述活動卡夾在承托板上對稱設置，兩排所述活動卡夾對鍍膜工件進行夾持固定，所述加熱設備包括烘烤板，所述烘烤板與承托板之間的加熱距離可進行調節，所述支架箱體的內壁后側安裝有滑條，所述烘烤板可在滑條上進行限位滑動，所述烘烤板通過絲杠進行傳動，且絲杠的端部連接驅動電機的輸出端，所述驅動電機固定安裝在支架箱體的頂部。

優選的，所述承托板的兩側通過安裝桿與支架箱體的內壁固定安裝。

優選的，所述承托板和加熱設備配套數量設置不少于組。

優選的，所述烘烤板中安裝有紅外線加熱管，所述烘烤板的內側壁設置有反光板，所述烘烤板的一側設置有延伸端，所述延伸端上開設有燕尾槽，所述滑條在燕尾槽中配合滑動。

優選的，所述延伸端上還安裝有轉套，所述絲杠與轉套螺紋連接傳動。

優選的，所述承托板上開設有滑槽，所述滑槽中安裝有卡夾安裝支架，兩組活動卡夾固定安裝在卡夾安裝支架上，且兩組活動卡夾的夾臂后側通過一根連桿連接。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：本發明便于對鍍膜工件進行快速固定夾持，多個鍍膜工件進行同時烘烤加熱，且加熱時烘烤板可根據需要調整與鍍膜工件之間的烘烤距離，可進行同時調節，便于保證鍍膜工件烘烤時間，溫度，以及均勻度的一致性，保證產品的質量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案，下面將對實施例描述所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明結構示意圖；