[發(fā)明專利]一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910119635.6 | 申請日: | 2019-02-18 |
| 公開(公告)號: | CN109652776A | 公開(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孟鑫沛;雷芳;張燕琴 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32;C23C14/50;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京集智東方知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11578 | 代理人: | 孫文彬 |
| 地址: | 523808 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍍膜工件 承托板 活動卡夾 烘烤 加熱設(shè)備 加熱支架 離子鍍膜 支架箱體 加熱 模具 離子鍍膜設(shè)備 對稱設(shè)置 夾持固定 快速固定 上下堆疊 烘烤板 均勻度 上表面 夾持 兩排 排布 保證 配套 | ||
1.一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架,包括支架箱體(1),其特征在于:所述支架箱體(1)中安裝有承托板(2)和加熱設(shè)備,所述承托板(2)和加熱設(shè)備配套設(shè)置相同數(shù)量,進(jìn)行上下堆疊排布,所述承托板(1)的上表面安裝有活動卡夾(4),所述活動卡夾(4)在承托板(2)上對稱設(shè)置,兩排所述活動卡夾(4)對鍍膜工件進(jìn)行夾持固定,所述加熱設(shè)備包括烘烤板(5),所述烘烤板(5)與承托板(2)之間的加熱距離可進(jìn)行調(diào)節(jié),所述支架箱體(1)的內(nèi)壁后側(cè)安裝有滑條(6),所述烘烤板(5)可在滑條(6)上進(jìn)行限位滑動,所述烘烤板(5)通過絲杠(8)進(jìn)行傳動,且絲杠(8)的端部連接驅(qū)動電機(jī)(7)的輸出端,所述驅(qū)動電機(jī)(7)固定安裝在支架箱體(1)的頂部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架,其特征在于:所述承托板(2)的兩側(cè)通過安裝桿(3)與支架箱體(1)的內(nèi)壁固定安裝。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架,其特征在于:所述承托板(2)和加熱設(shè)備配套數(shù)量設(shè)置不少于5組。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架,其特征在于:所述烘烤板(5)中安裝有紅外線加熱管(501),所述烘烤板(5)的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有反光板(502),所述烘烤板(5)的一側(cè)設(shè)置有延伸端(503),所述延伸端(503)上開設(shè)有燕尾槽(505),所述滑條(6)在燕尾槽(505)中配合滑動。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架,其特征在于:所述延伸端(503)上還安裝有轉(zhuǎn)套(504),所述絲杠(8)與轉(zhuǎn)套(504)螺紋連接傳動。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于模具的PIP離子鍍膜工序中的加熱支架,其特征在于:所述承托板(2)上開設(shè)有滑槽(201),所述滑槽(201)中安裝有卡夾安裝支架(202),兩組活動卡夾(4)固定安裝在卡夾安裝支架(202)上,且兩組活動卡夾(4)的夾臂后側(cè)通過一根連桿(401)連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東莞職業(yè)技術(shù)學(xué)院,未經(jīng)東莞職業(yè)技術(shù)學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910119635.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





