[發(fā)明專利]一種多種基底負載多孔納米片狀磷化鎳材料的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910103413.5 | 申請日: | 2019-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN109876834A | 公開(公告)日: | 2019-06-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蔡金光;胡存;呂超;羅軍洪;石巖;宋江鋒;張志 | 申請(專利權)人: | 中國工程物理研究院材料研究所 |
| 主分類號: | B01J27/185 | 分類號: | B01J27/185;B01J35/10;C25B1/04;C25B11/06 |
| 代理公司: | 成都眾恒智合專利代理事務所(普通合伙) 51239 | 代理人: | 唐健玲 |
| 地址: | 610200 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基底 磷化鎳 多孔納米 無電鍍鎳 制備 導電基底材料 超聲波清洗 催化劑溶液 負載催化劑 酸性電解液 催化析氫 力學性能 析氫電極 電解池 管式爐 過電勢 活性高 坩堝蓋 鍍鎳 磷化 坩堝 催化劑 組裝 應用 | ||
本發(fā)明公開了一種多種基底負載多孔納米片狀磷化鎳材料的制備方法,首先將基底進行超聲波清洗,然后將其置于催化劑溶液中進行無電鍍鎳催化劑的負載,再將負載催化劑的基底置于無電鍍鎳溶液中進行無電鍍鎳,最后將磷置于坩堝底部、將鍍鎳后的基底置于磷上方,蓋好坩堝蓋后置于管式爐中進行磷化,即得到基底負載的多孔納米片狀磷化鎳材料。該方法工藝簡單,成本低廉,周期短。制備得到的磷化鎳/導電基底材料在酸性電解液中電催化析氫活性高,具有很低的過電勢和Tafel斜率,且具有很高的穩(wěn)定性,同時力學性能好,可以直接作為析氫電極組裝酸性電解池,具有很高的應用價值。
技術領域
本發(fā)明涉及非貴金屬電催化分解水制氫領域,具體涉及一種多種基底負載多孔納米片狀磷化鎳材料的制備方法。
背景技術
氫氣具有熱值高、儲量豐富、無污染、可再生、環(huán)境友好等優(yōu)點,是未來可以替代煤、石油、天然氣等傳統(tǒng)化石燃料的新一代能源載體。利用收集的太陽能、風能、地熱能等清潔能源結合電解水制氫技術將是最有希望實現(xiàn)的生產(chǎn)氫氣的理想途徑。但是,即使是這種途徑,要實現(xiàn)高效的電解水制氫也需要催化劑才行。目前效率最高的電催化劑都是如鉑等貴金屬材料,其稀有儲量和高價格大大限制了電解水制氫的應用。因此,開發(fā)具有高催化活性、儲量豐富、價格低廉且在電解質(zhì)溶液中穩(wěn)定性好的非貴金屬催化劑具有重要的經(jīng)濟價值和社會意義。
截至目前,過渡金屬硫化物、硒化物、磷化物等都得到了研究者的關注,也表現(xiàn)出一定的電催化析氫性能。其中,磷化鎳由于其高催化活性和酸性介質(zhì)穩(wěn)定性收到了研究者的重點關注,目前也有一些比較有效的制備磷化鎳的方法。比如采用高溫油浴方法可以合成得到磷化鎳的納米晶,但這種方法需要負載在電極上才能用于析氫催化。另外,還有相當一部分工作是在鈦片、碳布等導電基底上先生長鎳的氧化物或者氫氧化物前體微納結構,然后在次磷酸鈉產(chǎn)生的磷化氫氣氛中轉(zhuǎn)化成磷化鎳,但該方法具有很大的危險性,且磷化重復性較差。
一個好的具有實用價值的電催化劑需要滿足幾個要求:制備方法簡單重復性好、高導電性、高催化活性以及高穩(wěn)定性。目前大部分磷化鎳析氫催化劑均不能滿足這些要求,大都制備過程繁瑣,穩(wěn)定性能差,機械性能差,不利于大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。因此有必要發(fā)展更為簡單、有效、重復性好且利于規(guī)?;a(chǎn)的高性能磷化鎳電催化劑的制備方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決上述問題,提供了一種在導電基底負載多孔納米片狀磷化鎳材料的制備方法,該方法工藝簡單,成本低廉,周期短。制備得到的磷化鎳/ 導電基底材料在酸性電解液中電催化析氫活性高,具有很低的過電勢和Tafel斜率,且具有很高的穩(wěn)定性,同時力學性能好,可以直接作為析氫電極組裝酸性電解池,具有很高的應用價值。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術方案如下:
一種多種基底負載多孔納米片狀磷化鎳材料的制備方法,首先將基底進行超聲波清洗,然后將其置于催化劑溶液中進行無電鍍鎳催化劑的負載,再將負載催化劑的基底置于無電鍍鎳溶液中進行無電鍍鎳,最后將磷置于坩堝底部、將鍍鎳后的基底置于磷上方,蓋好坩堝蓋后置于管式爐中進行磷化,即得到基底負載的多孔納米片狀磷化鎳材料。
具體的說,基底的超聲波清洗包括以下步驟:將基底依次置于鹽酸水溶液、丙酮和乙醇超聲處理5~15分鐘,將超聲處理后的基底經(jīng)去離子水洗滌后干燥,在此,應當注意的是,基底的清潔也可以用其他的洗滌方法,只要能達到基底表面清潔的目的即可。
其中,原則上本方法可以在任意基底上使用,但作為優(yōu)選,所述基底為包括碳布、鈦片、硅片、FTO、ITO、蠶絲、樹葉、紙巾、棉花中任意一種在內(nèi)的基底。并且,基底的面積不限,只要后續(xù)涉及的裝置能夠容納即可。
具體的說,無電鍍鎳催化劑的負載包括以下步驟:將基底置于氯化鈀和聚乙烯吡咯烷酮水溶液中浸泡50~70分鐘,取出干燥后再置于還原劑溶液中浸泡 5~15分鐘,洗滌并干燥。
更具體的說,所述氯化鈀和聚乙烯吡咯烷酮水溶液中,氯化鈀的濃度不低于1ppm,聚乙烯吡咯烷酮濃度在0至溶解度之間。
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