[發(fā)明專利]一種硅片的處理方法和裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910092130.5
• 申請(qǐng)日: 2019-01-30
• 公開（公告）號(hào): CN109759937A
• 公開（公告）日: 2019-05-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 具成旻;崔世勛;李昀澤;白宗權(quán)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B24B29/02
• 分類號(hào): B24B29/02;B08B3/04;B08B3/02
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;胡影

本發(fā)明提供一種硅片的處理方法和裝置，在硅片的處理方法中，將硅片輸送盒置于盛有浸沒液且處于溢流狀態(tài)的卸載槽中，硅片輸送盒交互面與水平面呈平行狀態(tài)，硅片輸送盒中用于承載硅片的承載面與水平面垂直，在硅片完成最終拋光之后，將硅片以豎直方式裝載至硅片輸送盒中并使硅片浸沒于浸沒液中。根據(jù)本發(fā)明的硅片的處理方法，在硅片完成最終拋光之后，能夠?qū)⒐杵载Q直方式裝載至硅片輸送盒中并使硅片浸沒于浸沒液中，避免硅片完成最終拋光后裝載至硅片輸送盒時(shí)該硅片輸送盒中的硅片露出，減輕因殘留的漿料引起的蝕刻，通過硅片的處理裝置能夠?qū)崿F(xiàn)上述的硅片的處理方法，有效減少硅片的二次污染，提高清洗效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及硅片技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種硅片的處理方法和裝置。

背景技術(shù)

在硅片的拋光處理過程中，一般的拋光工程的工序按照雙面拋光→清洗→邊緣拋光→清洗→最終拋光的順序進(jìn)行，根據(jù)需要，也可以按照邊緣拋光→清洗→雙面拋光→清洗→最終拋光的順序進(jìn)行拋光工程。另外，為強(qiáng)化對(duì)拋光工程內(nèi)硅片品質(zhì)的監(jiān)控，也可以追加平坦度測(cè)量工程和邊緣檢查工程。最終拋光是通過使用拋光墊、拋光漿料、模板組件以及其他化學(xué)品對(duì)完成雙面拋光和邊緣拋光的硅片進(jìn)行正面的最終拋光的工程。由此，應(yīng)能夠最終決定硅片的平坦度，且使硅片表面的污染(顆粒、刮傷等)最小化。

最終拋光工藝通過最終拋光機(jī)進(jìn)行，最終拋光機(jī)大體以裝載→硅片移栽→一次拋光→二次拋光→三次拋光→硅片移栽→卸載的順序構(gòu)成，如圖1所示為硅片的最終拋光過程示意圖，最終拋光機(jī)主要由裝載結(jié)構(gòu)1、拋光結(jié)構(gòu)2、機(jī)械臂3、調(diào)節(jié)器4和卸載結(jié)構(gòu)5構(gòu)成，使用過程中，通過裝載結(jié)構(gòu)1和機(jī)械臂3將硅片6置于拋光結(jié)構(gòu)2上進(jìn)行拋光，拋光過程中可以通過調(diào)節(jié)器4來調(diào)節(jié)硅片6，經(jīng)過多次拋光后完成拋光，再通過卸載結(jié)構(gòu)5將硅片6卸載。為了使硅片表面的污染最小化，增強(qiáng)清洗硅片時(shí)的清洗力，也可以在卸載部位施加清洗劑來構(gòu)成裝備。供應(yīng)至最終拋光過程中的拋光漿料可以是兩種或三種，最終拋光墊也同樣是兩種或三種，這可以根據(jù)所生產(chǎn)的產(chǎn)品，根據(jù)規(guī)格來區(qū)別選擇。待完成拋光后，需要使用刷子或高壓的去離子水對(duì)貼附于定盤的拋光墊進(jìn)行清洗，至于清洗周期，應(yīng)能夠在每一次運(yùn)行或每一個(gè)硅片輸送盒的作業(yè)結(jié)束之后進(jìn)行清洗，且應(yīng)能夠在裝備內(nèi)清洗程序中設(shè)定清洗周期。最后，在拋光之后移動(dòng)的過程中，硅片表面必須維持濕潤(rùn)狀態(tài)，為此，應(yīng)能夠?qū)⑷ルx子水或化學(xué)品噴射于硅片表面。

完成最終拋光的硅片應(yīng)在以水平方式位于卸載槽內(nèi)的硅片輸送盒待機(jī)至13pcs或25pcs的硅片完成作業(yè)的時(shí)點(diǎn)，此時(shí)，卸載槽應(yīng)繼續(xù)由去離子水溢流，從而使完成最終拋光的硅片表面污染最小化。此時(shí)所使用的硅片輸送盒的材質(zhì)通常使用可熔性聚四氟乙烯(PFA)、熱解氮化硼(PBN)或聚碳酸酯(PC)材質(zhì)，也可以根據(jù)最終拋光工程的工序及卸載槽的設(shè)計(jì)，變更硅片輸送盒的種類及材質(zhì)而使用。最終完成最終拋光的硅片輸送盒應(yīng)能夠通過操作員或自動(dòng)導(dǎo)引運(yùn)輸車(AGV)被移送至預(yù)清洗工程，而進(jìn)行對(duì)硅片表面的清洗及后續(xù)工程。

目前，客戶對(duì)硅片品質(zhì)的要求越趨苛刻，尤其，在客戶對(duì)37nm以下微細(xì)顆粒的要求越趨嚴(yán)格的狀況下，當(dāng)前由于受到最終拋光裝備的卸載槽結(jié)構(gòu)受限，僅能夠通過去離子水的溢流來清洗處理拋光后的硅片，清洗能力不強(qiáng)，生產(chǎn)效率不高。尤其，從裝備的結(jié)構(gòu)而言，13pcs或25pcs的硅片應(yīng)全部完成最終拋光方可進(jìn)行作為下一個(gè)工程的預(yù)清洗。但是，為了使25pcs硅片全部完成最終拋光，根據(jù)最終拋光的加工時(shí)間，需要最少四十分鐘至最長(zhǎng)一個(gè)小時(shí)左右的時(shí)間。因此，就第一個(gè)完成最終拋光的硅片而言，在卸載槽內(nèi)長(zhǎng)時(shí)間待機(jī)，因而露出后二次污染的可能性會(huì)增加。