[發(fā)明專利]一種硅片的處理方法和裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910092130.5 | 申請日： | 2019-01-30 |
| 公開（公告）號： | CN109759937A | 公開（公告）日： | 2019-05-17 |
| 發(fā)明（設計）人： | 具成旻;崔世勛;李昀澤;白宗權 | 申請（專利權）人： | 西安奕斯偉硅片技術有限公司 |
| 主分類號： | B24B29/02 | 分類號： | B24B29/02;B08B3/04;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人： | 許靜;胡影 |
| 地址： | 710065 陜西省西安市*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 硅片 硅片輸送 最終拋光 浸沒液 裝載 方法和裝置 浸沒 豎直 蝕刻 水平面垂直 處理裝置 二次污染 平行狀態(tài) 清洗效果 有效減少 承載面 卸載槽 漿料 溢流 殘留 承載 | ||
1.一種硅片的處理方法，其特征在于，將硅片輸送盒置于盛有浸沒液且處于溢流狀態(tài)的卸載槽中，所述硅片輸送盒交互面與水平面呈平行狀態(tài)，所述硅片輸送盒中用于承載硅片的承載面與水平面垂直，在硅片完成最終拋光之后，將所述硅片以豎直方式裝載至所述硅片輸送盒中并使所述硅片浸沒于所述浸沒液中。
2.根據(jù)權利要求1所述的硅片的處理方法，其特征在于，將所述硅片裝載至所述硅片輸送盒中之后，通過噴嘴分別從所述卸載槽的上部和下部以不同角度噴射去離子水，以清洗所述硅片輸送盒和所述硅片。
3.根據(jù)權利要求1所述的硅片的處理方法，其特征在于，從所述卸載槽的底部的導流口向所述卸載槽內供應所述浸沒液，從所述卸載槽的底部的導出口排出所述卸載槽中的浸沒液。
4.根據(jù)權利要求1所述的硅片的處理方法，其特征在于，從所述卸載槽的底部的導出口通過輸送泵排出所述卸載槽中的浸沒液。
5.根據(jù)權利要求1所述的硅片的處理方法，其特征在于，在所述硅片裝載至所述卸載槽內的所述硅片輸送盒中之后，向所述卸載槽中供應酸性中和劑和/或表面活性劑。
6.一種硅片的處理裝置，其特征在于，包括：
卸載槽，所述卸載槽用于盛裝浸沒液且處于溢流狀態(tài)；
硅片輸送盒，所述硅片輸送盒置于所述卸載槽中且所述硅片輸送盒交互面與水平面呈平行狀態(tài)，所述硅片輸送盒中用于承載硅片的承載面與水平面垂直，以使所述硅片以豎直方式裝載至所述硅片輸送盒中并使所述硅片浸沒于所述浸沒液中。
7.根據(jù)權利要求6所述的硅片的處理裝置，其特征在于，還包括：
設置在所述卸載槽上部和下部的噴嘴，用于分別從所述卸載槽的上部和下部以不同角度噴射去離子水，以清洗所述硅片輸送盒和所述硅片。
8.根據(jù)權利要求6所述的硅片的處理裝置，其特征在于，還包括：
第一供應部，所述卸載槽的底部設有導流口，所述第一供應部通過管道與所述導流口連接，以使所述第一供應部從所述卸載槽的底部的導流口向所述卸載槽內供應所述浸沒液，所述卸載槽的底部設有導出口以排出所述卸載槽中的浸沒液。
9.根據(jù)權利要求8所述的硅片的處理裝置，其特征在于，還包括：
輸送泵，所述輸送泵的進口與所述導出口連通，以通過所述輸送泵從所述導出口排出所述卸載槽中的浸沒液。
10.根據(jù)權利要求6所述的硅片的處理裝置，其特征在于，還包括：
第二供應部，用于向所述卸載槽中供應酸性中和劑和/或表面活性劑。
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