[發明專利]用于通過光聚合添加制備的成形體的后處理裝置

在審

• 申請號: 201910090836.8
• 申請日: 2019-01-30
• 公開（公告）號: CN110116501A
• 公開（公告）日: 2019-08-13
• 發明（設計）人: J·亨德里克
• 申請（專利權）人: 義獲嘉偉瓦登特公司
• 主分類號: B29C64/35
• 分類號: B29C64/35;B29C64/379;B33Y40/00;A61C13/00
• 代理公司: 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280
• 代理人: 郭廣迅;李渤

1.一種用于通過光聚合添加制備的成形體的后處理裝置，其具有用于清潔成形體的清潔站和用于成形體的后曝光的精加工站，其特征在于，所述清潔站和所述精加工站容納在殼體(2)中，所述殼體(2)能夠站立在水平支架表面上，其中所述清潔站(22)容納在下部(20)中，并且所述精加工站(42)容納在垂直位于所述下部(20)上方的上部(40)中，其中所述下部和上部可以通過具有可以打開的封閉件(24)的通道彼此連接，其特征在于具有垂直引導件(46)和在其上可垂直移位的固定件(48)的垂直提升裝置(44)延伸通過所述精加工站以便于能夠在清潔站(22)和精加工站(42)之間來回輸送所述成形體，所述成形體(1)可以直接或間接固定到所述固定件(48)，其特征在于整合到殼體中的控制裝置(4)設置成：控制該提升裝置(44)的運行、封閉件(24)的運行以及清潔和精加工站的運行，使得在成形體(1)已經定位在固定件上之后并且在封閉件(24)已經打開之后，所述提升裝置(44)使成形體降低到所述清潔站(22)的盆(26)中；控制清潔站的運行用于清潔成形體；在完成清潔站(22)的運行后，使用所述提升裝置(44)使所述成形體(1)向上移位進入精加工站(42)；關閉所述通道的所述封閉件(24)，然后控制所述精加工站(24)的運行用于后曝光。

2.根據權利要求1所述的后處理裝置，其特征在于，所述提升裝置(44)設置有旋轉驅動，并且所述固定件連接到所述旋轉驅動并且設計成使得所述成形體(1)可以通過旋轉驅動圍繞垂直軸旋轉，以便于通過離心可光聚合液體清潔所述成形體。

3.根據權利要求1所述的后處理裝置，其特征在于，所述清潔站(22)設置有用于清潔液的可控進料，并且其特征在于所述控制裝置(4)設置成通過用用于清潔所述成形體(1)的清潔液填充所述盆(26)控制所述清潔站(22)的運行。

4.根據權利要求3所述的后處理裝置，其特征在于，所述提升裝置(44)設置有旋轉驅動，并且所述固定件連接到所述旋轉驅動并且設計成使得所述成形體(1)可以通過旋轉驅動圍繞垂直軸旋轉，并且其特征在于所述控制裝置(4)設置成在盆(26)已經填充清潔液后，使用旋轉驅動使成形體在所述清潔液中旋轉，以便于加強清潔作用。

5.根據權利要求3或4所述的后處理裝置，其特征在于，所述后處理裝置設計用于將至少兩個具有清潔液的容器(28)連接，并且所述后處理裝置設置有泵(30)和閥裝置(32)，其在控制裝置(4)的控制下，選擇性地將清潔液從容器(28)泵入盆(6)中，并且在完成清潔后，將清潔液從盆泵出。

6.根據前述權利要求中的一項所述的后處理裝置，其特征在于，所述精加工站(42)設置有至少兩個具有不同波長的用于后曝光的光源。

7.根據權利要求6所述的后處理裝置，其特征在于，所述精加工站(42)設置有至少四個具有四種不同波長的用于成形體的后曝光的光源。

8.根據權利要求7所述的后處理裝置，其特征在于，在所述精加工站(42)中，所述光源將具有360-370nm、380-390nm、400-410nm和455-465nm范圍內的最大波長的光引導到所述成形體上。

9.根據前述權利要求中的一項所述的后處理裝置，其特征在于，所述控制裝置(4)連接到用于接收關于待精加工的成形體性質的信息的輸入裝置，并且設置有存儲器，其中儲存作為關于成形體性質的信息的函數的用于所述清潔站(22)和所述精加工站(42)的運行程序，并且其特征在于，所述控制裝置被設置成在已經接收到關于成形體性質的信息后檢索相關的運行程序，并且如檢索的運行程序的要求控制所述清潔站(22)和所述精加工站(42)。

10.根據權利要求9所述的后處理裝置，其特征在于，所述輸入裝置是用于由用戶手動輸入關于所述成形體的性質的信息的手動輸入裝置。