[發明專利]一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝

在審

• 申請號: 201910077064.4
• 申請日: 2019-01-27
• 公開（公告）號: CN109518142A
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 趙文強;尹忠樂
• 申請（專利權）人: 佛山市南海區晶鼎泰機械設備有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/06;C23C14/10
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• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝，打底層：弧電源轟擊，偏壓控制在200～300V，時間控制在3～5分鐘；中間多層：用氧化物和氮化物多層過渡，層數控制8～10層；單層時間控制在10～20分鐘；靶電流控制在10～20A；過渡咬合層：過渡層和顏色層混合濺射時間15～25分鐘；顏色層：顏色層時間控制在20～30分鐘；保護層：選用高頻率大能量電源，時間控制在40～50分鐘，得到PVD膜層。鋁合金經過此工藝處理后，可以在免做水鍍處理、膜層厚度大大降低的情況下，仍能滿足膜層的防腐蝕等性能要求。與傳統工藝相比，在取消水鍍層的前提，只用PVD鍍層，同樣達到了耐腐蝕、耐摩擦等各種測試效果；同時，降低了生產成本，減少了良率損失。

技術領域

本發明涉及鋁合金的PVD真空鍍膜領域，具體為一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝。

背景技術

目前鋁合金應用非常廣泛，不但可以在傳統的五金掛件，汽車Logo，衛浴潔具等方面占有一席之地，特別是近幾年在電子產品手機外殼等方面，通過采用陽極氧化的處理方法達到色彩鮮艷，華麗的效果。

問題在于，陽極氧化、水電鍍等處理手段，其弊端是對環境的污染非常嚴重。

發明內容

本發明的目的是針對現有技術的缺陷，提供一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝，以解決上述背景技術提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝，包括如下步驟：

步驟一：打底層：弧電源轟擊，偏壓控制在200～300V，時間控制在3～5分鐘；

步驟二：中間多層：用氧化物和氮化物多層過渡，層數控制8～10層；單層時間控制在10～20分鐘；靶電流控制在10～20A；

步驟三：過渡咬合層：過渡層和顏色層混合濺射時間15～25分鐘；

步驟四：顏色層：顏色層時間控制在20～30分鐘；

步驟五：保護層：選用高頻率大能量電源，時間控制在40～50分鐘，得到PVD膜層。

作為本發明的一種優選技術方案，所述中間多層的氧化物為SiO2；所述氮化物為TiN。

作為本發明的一種優選技術方案，所述保護層的高頻率大能量電源為70～90KHz，20～30KW。

作為本發明的一種優選技術方案，所述PVD膜層厚度為1.5～2.5um。

本發明的有益效果是：該工藝包括如下步驟：打底層、中間多層、過渡咬合層、顏色層和保護層，鋁合金經過此工藝處理后，可以在免做水鍍處理、膜層厚度大大降低的情況下，仍能滿足膜層的防腐蝕等性能要求。與傳統工藝相比，具有以下優點：在取消水鍍層的前提，只用PVD鍍層，同樣達到了耐腐蝕、耐摩擦等各種測試效果；同時，降低了生產成本，減少了良率損失。

具體實施方式：

下面對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易被本領域人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

實施例1

打底層：弧電源轟擊，偏壓控制在200V，時間控制在3分鐘；

中間多層：用氧化物（如SiO2）和氮化物（如TiN）多層過渡，層數控制8層；單層時間控制在10分鐘；靶電流控制在10A；

過渡咬合層：過渡層和顏色層混合濺射時間15分鐘；

顏色層：顏色層時間控制在20分鐘；

保護層：選用高頻率大能量電源（70KHz，20KW），時間控制在40分鐘

實施例2