[發明專利]一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝在審
| 申請號： | 201910077064.4 | 申請日： | 2019-01-27 |
| 公開（公告）號： | CN109518142A | 公開（公告）日： | 2019-03-26 |
| 發明（設計）人： | 趙文強;尹忠樂 | 申請（專利權）人： | 佛山市南海區晶鼎泰機械設備有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/10 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 528000 廣東省佛山市南海區獅山*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 時間控制 顏色層 真空鍍膜工藝 鋁合金表面 多層 膜層 測試效果 傳統工藝 電流控制 工藝處理 偏壓控制 性能要求 保護層 打底層 大能量 氮化物 防腐蝕 高頻率 過渡層 弧電源 鋁合金 耐腐蝕 耐摩擦 咬合層 氧化物 單層 鍍層 濺射 良率 水鍍 轟擊 生產成本 電源 | ||
【權利要求書】：
1.一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝，其特征在于，包括如下步驟：
步驟一：打底層：弧電源轟擊，偏壓控制在200～300V，時間控制在3～5分鐘；
步驟二：中間多層：用氧化物和氮化物多層過渡，層數控制8～10層；單層時間控制在10～20分鐘；靶電流控制在10～20A；
步驟三：過渡咬合層：過渡層和顏色層混合濺射時間15～25分鐘；
步驟四：顏色層：顏色層時間控制在20～30分鐘；
步驟五：保護層：選用高頻率大能量電源，時間控制在40～50分鐘，得到PVD膜層。
2.根據權利要求1所述的一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝，其特征在于：所述中間多層的氧化物為SiO2；所述氮化物為TiN。
3.根據權利要求1所述的一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝，其特征在于：所述保護層的高頻率大能量電源為70～90KHz，20～30KW。
4.根據權利要求1所述的一種鋁合金表面的PVD真空鍍膜工藝，其特征在于：所述PVD膜層厚度為1.5～2.5um。
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