[發明專利]一種基片表面檢測方法及裝置有效
| 申請號: | 201910074497.4 | 申請日: | 2019-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN109668532B | 公開(公告)日: | 2021-04-13 |
| 發明(設計)人: | 單海洋;劉海萍;董洪成;景敏娟 | 申請(專利權)人: | 北京航天時代激光導航技術有限責任公司 |
| 主分類號: | G01B11/30 | 分類號: | G01B11/30 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 范曉毅 |
| 地址: | 100094 北京市海淀區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 表面 檢測 方法 裝置 | ||
1.一種基片表面檢測方法,所述基片相對的兩個表面上各設有一個環形槽,每個槽的中心均為一個柱體,兩個柱體的中心線重合,所述基片由石英材料制成,其特征在于:包括如下步驟:
步驟一、將所述基片上其中一個表面的環形槽完全用水填充;
步驟二、在暗場環境下,利用激光照射所述基片上另一個表面的柱體的頂面;所述激光的波長為450nm~700nm;
步驟三、利用顯微鏡觀察步驟二中所述頂面反射的激光形成的光斑;
利用基片檢測工裝實現基片表面檢測方法,所述基片檢測工裝上設有開口和階梯狀腔體,所述基片安放在所述開口處,向階梯狀腔內注入水,使步驟一中所述的環形槽完全用水填充;
步驟一中所述的水為去離子水;
在所述步驟三之后,將步驟三所述光斑與標準基片的光斑進行對比,判斷所述頂面是否滿足粗糙度要求。
2.根據權利要求1所述的一種基片表面檢測方法,其特征在于:所述環形槽為圓環形槽,所述柱體為圓柱體。
3.根據權利要求1所述的一種基片表面檢測方法,其特征在于:所述標準基片的
4.根據權利要求1所述的一種基片表面檢測方法,其特征在于:所述標準基片的光斑采用白光輪廓儀或者原子力顯微鏡測試獲得。
5.一種基片表面檢測裝置,所述基片相對的兩個表面上各設有一個環形槽,每個槽的中心均為一個柱體,兩個柱體的中心線重合,所述基片由石英材料制成,其特征在于:包括激光器、顯微鏡、基片檢測工裝、注水裝置;
所述基片檢測工裝上設有開口和階梯狀腔體,所述基片安放在所述開口處,使基片待檢測表面暴露在所述階梯狀腔體外部;所述注水裝置用于向所述基片檢測工裝的腔體內注水,使基片上處于所述階梯狀腔體內部的環形槽完全被水填充;所述激光器用于發射激光照射基片待檢測表面;所述顯微鏡用于觀察基片待檢測表面的反射激光形成的光斑;
所述激光的波長為450nm~700nm;
所述注水裝置內的水為去離子水。
6.根據權利要求5所述的一種基片表面檢測裝置,其特征在于:將所述光斑與標準基片的光斑進行對比,判斷所述基片待檢測表面是否滿足粗糙度要求。
7.根據權利要求5所述的一種基片表面檢測裝置,其特征在于:所述環形槽為圓環形槽,所述柱體為圓柱體。
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