[發明專利]一種基片表面檢測方法及裝置

有效

• 申請號: 201910074497.4
• 申請日: 2019-01-25
• 公開（公告）號: CN109668532B
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發明（設計）人: 單海洋;劉海萍;董洪成;景敏娟
• 申請（專利權）人: 北京航天時代激光導航技術有限責任公司
• 主分類號: G01B11/30
• 分類號: G01B11/30
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 范曉毅

一種基片表面檢測方法，所述基片相對的兩個表面上各設有一個環形槽，每個槽的中心均為一個柱體，兩個柱體的中心線重合，所述基片由石英材料制成，其特征在于：包括如下步驟：步驟一、將所述基片上其中一個表面的環形槽完全用水填充；步驟二、在暗場環境下，利用激光照射所述基片上另一個表面的柱體的頂面；步驟三、利用顯微鏡觀察步驟二中所述頂面的反射光形成的光斑。通過本發明方法，可以保證球面發射基片在暗場激光散射顯微鏡下，消除反射基片特有的雜散光，順利進行檢測觀察。由于避免了黑色消光漆的使用，克服了上述兩項弊端的影響，能夠明顯提高球面反射基片的生產效率。

技術領域

本發明涉及一種基片表面檢測方法及裝置，屬于結構檢測技術領域。

背景技術

球面反射基片(一種用于特殊結構的圓形基片，又稱槽片)作為激光陀螺中的一個關鍵元件，影響著激光陀螺精度和穩定性。反射基片的表面質量要求極高，特別是要達到超光滑表面的要求，并且在暗場激光散射顯微鏡下觀察不能有微觀劃道、點子等加工軌跡表面缺陷。這給光學加工，尤其是檢驗帶來很大的難度與挑戰。

球面反射基片結構比較特殊，工作面和非工作面含有兩個不同直徑的小柱。現有對工作面小柱表面球面的超光滑表面檢測，是通過將完全化學清洗的基片非工作面小柱頂端及底部涂覆黑色消光漆，然后在暗場激光散射顯微鏡下觀察。由于黑色消光漆的引入，帶來兩方面影響。一是，涂覆消光漆以及等待消光漆干燥的過程需要大量時間，二是，消光漆的后期清除，需要經歷一套完整的化學清洗流程。兩方面嚴重影響了球面反射基片的生產效率。

發明內容

本發明要解決的技術問題是：克服現有技術的不足，提供了一種基片表面檢測方法及裝置，通過使用簡易的工裝結合去離子水，可以保證球面發射基片在暗場激光散射顯微鏡下，消除反射基片特有的雜散光，順利進行檢測觀察。由于避免了黑色消光漆的使用，克服了上述兩項弊端的影響，能夠明顯提高球面反射基片的生產效率。

本發明目的通過以下技術方案予以實現：

一種基片表面檢測方法，所述基片相對的兩個表面上各設有一個環形槽，每個槽的中心均為一個柱體，兩個柱體的中心線重合，所述基片由石英材料制成，包括如下步驟：

步驟一、將所述基片上其中一個表面的環形槽完全用水填充；

步驟二、在暗場環境下，利用激光照射所述基片上另一個表面的柱體的頂面；

步驟三、利用顯微鏡觀察步驟二中所述頂面的反射光形成的光斑。

上述基片表面檢測方法，步驟一中所述的水為去離子水。

上述基片表面檢測方法，所述環形槽為圓環形槽，所述柱體為圓柱體。

上述基片表面檢測方法，在所述步驟三之后，將步驟三所述光斑與標準基片的光斑進行對比，判斷所述頂面是否滿足粗糙度要求。

上述基片表面檢測方法，所述標準基片的

上述基片表面檢測方法，所述標準基片的光斑采用白光輪廓儀或者原子力顯微鏡測試獲得。

上述基片表面檢測方法，利用基片檢測工裝實現基片表面檢測方法，所述基片檢測工裝上設有開口和階梯狀腔體，所述基片安放在所述開口處，向階梯狀腔內注入水，使步驟一中所述的環形槽完全用水填充。

上述基片表面檢測方法，步驟二中所述激光的波長為450nm～700nm。

一種基片表面檢測裝置，所述基片相對的兩個表面上各設有一個環形槽，每個槽的中心均為一個柱體，兩個柱體的中心線重合，所述基片由石英材料制成，包括激光器、顯微鏡、基片檢測工裝、注水裝置；