[發(fā)明專(zhuān)利]一種蒸鍍?cè)O(shè)備及蒸鍍方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910067829.6
• 申請(qǐng)日: 2019-01-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109518135A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賈俊蘭;張亮;王選生
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/24
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

本發(fā)明公開(kāi)了一種蒸鍍?cè)O(shè)備及蒸鍍方法，涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，為解決現(xiàn)有技術(shù)中蒸鍍?cè)O(shè)備所蒸鍍出的膜厚在線性蒸發(fā)源的長(zhǎng)度方向上不均勻的問(wèn)題而發(fā)明。該蒸鍍?cè)O(shè)備，包括蒸鍍腔室、蒸發(fā)源載臺(tái)、基板載臺(tái)以及線性蒸發(fā)源，線性蒸發(fā)源設(shè)置于蒸發(fā)源載臺(tái)上，基板載臺(tái)位于蒸發(fā)源載臺(tái)的上方，蒸鍍?cè)O(shè)備還包括移動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，在移動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下，蒸發(fā)源載臺(tái)和基板載臺(tái)之間能夠在第一方向上發(fā)生相對(duì)移動(dòng)；在旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下，蒸發(fā)源載臺(tái)、基板載臺(tái)中的至少一個(gè)能夠分別繞一豎直軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，以使線性蒸發(fā)源的兩個(gè)端部相對(duì)基板載臺(tái)的位置能夠?qū)φ{(diào)。本發(fā)明可用于OLED顯示面板中有機(jī)發(fā)光材料的蒸鍍。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍?cè)O(shè)備及蒸鍍方法。

背景技術(shù)

OLED(Organic Light-Emitting Diode；有機(jī)發(fā)光二極管)是一種極具發(fā)展前景的平板顯示技術(shù)，它具有十分優(yōu)異的顯示性能，已成為顯示技術(shù)領(lǐng)域中第三代顯示器件的主力軍。OLED器件中的有機(jī)材料層的主流制備方法之一是蒸鍍法，具體為在真空腔體內(nèi)加熱有機(jī)小分子材料，使其升華或者熔融氣化成材料蒸汽，通過(guò)掩膜板的開(kāi)孔沉積在待蒸鍍基板上。其中，在蒸鍍過(guò)程中，如何提高蒸鍍膜厚的均一性已成為業(yè)內(nèi)追求的目標(biāo)。

現(xiàn)有技術(shù)中的一種蒸鍍?cè)O(shè)備，包括線性蒸發(fā)源，線性蒸發(fā)源的頂部具有多個(gè)沿線性蒸發(fā)源的長(zhǎng)度方向排布的噴嘴，該蒸鍍?cè)O(shè)備工作時(shí)，線性蒸發(fā)源沿垂直于其長(zhǎng)度的方向運(yùn)動(dòng)，以對(duì)待蒸鍍基板進(jìn)行掃描蒸鍍。

然而，由于受到線性蒸發(fā)源在其長(zhǎng)度方向上蒸鍍速率的差異、噴嘴大小設(shè)計(jì)不均、線性蒸發(fā)源內(nèi)坩堝在其長(zhǎng)度方向上加熱不均勻等諸多因素的影響，造成蒸鍍膜厚在沿線性蒸發(fā)源的長(zhǎng)度方向上有一定的波動(dòng)，而基板上有機(jī)發(fā)光材料膜厚的不均勻，則大大降低了OLED顯示面板的顯示效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供一種蒸鍍?cè)O(shè)備及蒸鍍方法，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中蒸鍍?cè)O(shè)備所蒸鍍出的膜厚在線性蒸發(fā)源的長(zhǎng)度方向上不均勻的問(wèn)題。

為達(dá)到上述目的，第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種蒸鍍?cè)O(shè)備，包括蒸鍍腔室、蒸發(fā)源載臺(tái)、基板載臺(tái)以及線性蒸發(fā)源，所述蒸發(fā)源載臺(tái)、所述基板載臺(tái)、所述線性蒸發(fā)源均設(shè)置于所述蒸鍍腔室內(nèi)，所述線性蒸發(fā)源設(shè)置于所述蒸發(fā)源載臺(tái)上，所述基板載臺(tái)位于所述蒸發(fā)源載臺(tái)的上方，所述蒸鍍?cè)O(shè)備還包括移動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，在所述移動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下，所述蒸發(fā)源載臺(tái)和所述基板載臺(tái)之間能夠在第一方向上發(fā)生相對(duì)移動(dòng)，所述第一方向?yàn)榕c豎直方向、所述線性蒸發(fā)源的長(zhǎng)度方向均垂直的方向；在所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下，所述蒸發(fā)源載臺(tái)、所述基板載臺(tái)中的至少一個(gè)能夠分別繞一豎直軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，以使所述線性蒸發(fā)源的兩個(gè)端部相對(duì)所述基板載臺(tái)的位置能夠?qū)φ{(diào)。

進(jìn)一步地，所述基板載臺(tái)與所述蒸鍍腔室的腔壁固定連接；所述移動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置包括第一基臺(tái)和移動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元，所述第一基臺(tái)所述蒸鍍腔室的腔壁活動(dòng)連接，所述移動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元用于驅(qū)動(dòng)所述第一基臺(tái)沿所述第一方向相對(duì)所述基板載臺(tái)移動(dòng)；所述蒸發(fā)源載臺(tái)通過(guò)第一轉(zhuǎn)軸與所述第一基臺(tái)可轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述第一轉(zhuǎn)軸豎直設(shè)置，所述第一轉(zhuǎn)軸的中心軸線為所述一豎直軸線，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述蒸發(fā)源載臺(tái)繞所述第一轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。

進(jìn)一步地，所述蒸發(fā)源載臺(tái)與所述蒸鍍腔室的腔壁固定連接；所述移動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置包括第二基臺(tái)和移動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元，所述第二基臺(tái)所述蒸鍍腔室的腔壁活動(dòng)連接，所述移動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元用于驅(qū)動(dòng)所述第二基臺(tái)沿所述第一方向相對(duì)所述蒸發(fā)源載臺(tái)移動(dòng)；所述基板載臺(tái)通過(guò)第二轉(zhuǎn)軸與所述第二基臺(tái)可轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述第二轉(zhuǎn)軸豎直設(shè)置，所述第二轉(zhuǎn)軸的中心軸線為所述一豎直軸線，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述基板載臺(tái)繞所述第二轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。

進(jìn)一步地，所述線性蒸發(fā)源的頂部具有噴嘴；所述蒸鍍?cè)O(shè)備還包括噴嘴控制裝置，所述噴嘴控制裝置具有第一狀態(tài)和第二狀態(tài)，當(dāng)所述噴嘴控制裝置處于所述第一狀態(tài)時(shí)，所述噴嘴控制裝置關(guān)閉所述噴嘴；當(dāng)所述噴嘴控制裝置處于所述第二狀態(tài)時(shí)，所述噴嘴控制裝置打開(kāi)所述噴嘴。