[發明專利]一種蒸鍍設備及蒸鍍方法在審
| 申請號: | 201910067829.6 | 申請日: | 2019-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN109518135A | 公開(公告)日: | 2019-03-26 |
| 發明(設計)人: | 賈俊蘭;張亮;王選生 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蒸鍍設備 蒸發源 載臺 蒸鍍 線性蒸發源 基板載臺 旋轉驅動裝置 移動驅動裝置 有機發光材料 驅動 豎直軸線 相對基板 相對移動 蒸鍍腔室 不均勻 可用 膜厚 對調 轉動 | ||
1.一種蒸鍍設備,包括蒸鍍腔室、蒸發源載臺、基板載臺以及線性蒸發源,所述蒸發源載臺、所述基板載臺、所述線性蒸發源均設置于所述蒸鍍腔室內,所述線性蒸發源設置于所述蒸發源載臺上,所述基板載臺位于所述蒸發源載臺的上方,其特征在于,
所述蒸鍍設備還包括移動驅動裝置和旋轉驅動裝置,在所述移動驅動裝置的驅動下,所述蒸發源載臺和所述基板載臺之間能夠在第一方向上發生相對移動,所述第一方向為與豎直方向、所述線性蒸發源的長度方向均垂直的方向;在所述旋轉驅動裝置的驅動下,所述蒸發源載臺、所述基板載臺中的至少一個能夠分別繞一豎直軸線轉動,以使所述線性蒸發源的兩個端部相對所述基板載臺的位置能夠對調。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍設備,其特征在于,所述基板載臺與所述蒸鍍腔室的腔壁固定連接;
所述移動驅動裝置包括第一基臺和移動驅動單元,所述第一基臺所述蒸鍍腔室的腔壁活動連接,所述移動驅動單元用于驅動所述第一基臺沿所述第一方向相對所述基板載臺移動;
所述蒸發源載臺通過第一轉軸與所述第一基臺可轉動連接,所述第一轉軸豎直設置,所述第一轉軸的中心軸線為所述一豎直軸線,所述旋轉驅動裝置用于驅動所述蒸發源載臺繞所述第一轉軸旋轉。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍設備,其特征在于,所述蒸發源載臺與所述蒸鍍腔室的腔壁固定連接;
所述移動驅動裝置包括第二基臺和移動驅動單元,所述第二基臺所述蒸鍍腔室的腔壁活動連接,所述移動驅動單元用于驅動所述第二基臺沿所述第一方向相對所述蒸發源載臺移動;
所述基板載臺通過第二轉軸與所述第二基臺可轉動連接,所述第二轉軸豎直設置,所述第二轉軸的中心軸線為所述一豎直軸線,所述旋轉驅動裝置用于驅動所述基板載臺繞所述第二轉軸旋轉。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的蒸鍍設備,其特征在于,所述線性蒸發源的頂部具有噴嘴;
所述蒸鍍設備還包括噴嘴控制裝置,所述噴嘴控制裝置具有第一狀態和第二狀態,當所述噴嘴控制裝置處于所述第一狀態時,所述噴嘴控制裝置關閉所述噴嘴;當所述噴嘴控制裝置處于所述第二狀態時,所述噴嘴控制裝置打開所述噴嘴。
5.根據權利要求4所述的蒸鍍設備,其特征在于,所述噴嘴控制裝置包括擋板和驅動單元,所述擋板與所述線性蒸發源活動連接,所述驅動單元用于驅動所述擋板在第一位置和第二位置之間運動;
當所述擋板位于所述第一位置時,所述擋板位于所述噴嘴的上方并且將所述噴嘴封堵;當所述擋板位于所述第二位置時,所述擋板在水平方向上與所述噴嘴錯開;
其中,所述擋板位于所述第一位置時的狀態為所述第一狀態,所述擋板位于所述第二位置時的狀態為所述第二狀態。
6.一種蒸鍍方法,其特征在于,包括以下步驟:線性蒸發源對待蒸鍍基板進行偶數次掃描蒸鍍;在相鄰的兩次掃描蒸鍍之間,所述線性蒸發源、所述待蒸鍍基板中的至少一個分別繞一豎直軸線轉動,以使所述線性蒸發源的兩個端部相對所述待蒸鍍基板的位置對調。
7.根據權利要求6所述的蒸鍍方法,其特征在于,在相鄰的兩次掃描蒸鍍之間,所述線性蒸發源、所述待蒸鍍基板中的至少一個分別繞一豎直軸線轉動,以使所述線性蒸發源的兩個端部相對所述待蒸鍍基板的位置對調包括:
在相鄰的兩次掃描蒸鍍之間,所述線性蒸發源繞所述線性蒸發源的豎直中心軸線相對所述待蒸鍍基板轉動180°,以使所述線性蒸發源的兩個端部相對所述待蒸鍍基板的位置對調;其中,所述線性蒸發源的豎直中心軸線為所述一豎直軸線。
8.根據權利要求6所述的蒸鍍方法,其特征在于,所述線性蒸發源對所述待蒸鍍基板掃描蒸鍍的次數為兩次。
9.根據權利要求6所述的蒸鍍方法,其特征在于,沿第一方向,所述線性蒸發源在所述待蒸鍍基板的兩側之間相對所述待蒸鍍基板往返運動的過程中均對所述待蒸鍍基板進行掃描蒸鍍;
其中,所述第一方向為與豎直方向、所述線性蒸發源的長度方向均垂直的方向。
10.根據權利要求6~9中任一項所述的蒸鍍方法,其特征在于,在所述線性蒸發源的兩個端部相對所述待蒸鍍基板的位置對調的過程中,所述線性蒸發源的噴嘴關閉。
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