[發(fā)明專利]磁存儲(chǔ)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910064055.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110890396A | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吉川將壽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東芝存儲(chǔ)器株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L27/22 | 分類號(hào): | H01L27/22;H01L43/08 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 張軼楠;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 存儲(chǔ) 裝置 | ||
本公開主要涉及磁存儲(chǔ)裝置。實(shí)施方式的磁存儲(chǔ)裝置具備:具有可變的磁化方向的第1磁性層、具有固定的磁化方向的第2磁性層以及設(shè)置于所述第1磁性層與所述第2磁性層之間的非磁性層,所述第1磁性層包含多晶態(tài)的第1子磁性層和非晶態(tài)的第2子磁性層。
本申請(qǐng)主張以日本專利申請(qǐng)2018-168867號(hào)(申請(qǐng)日:2018年9月10日)為在先申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)。本申請(qǐng)通過參照該在先申請(qǐng)而包含在先申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容。
技術(shù)領(lǐng)域
實(shí)施方式主要涉及磁存儲(chǔ)裝置。
背景技術(shù)
已提出了在半導(dǎo)體基板上集成了磁阻效應(yīng)元件(magnetoresistive element)以及晶體管的磁存儲(chǔ)裝置(半導(dǎo)體集成電路裝置)。
在磁存儲(chǔ)裝置中,重要的是減少寫入錯(cuò)誤率(write error rate)(WER)。為此,需要減少寫入電流的偏差等特性的偏差。
然而,至今為止,不一定能夠說已經(jīng)獲得了減少了寫入特性的偏差的磁存儲(chǔ)裝置。
發(fā)明內(nèi)容
實(shí)施方式提供一種能夠減少特性的偏差的磁存儲(chǔ)裝置。
實(shí)施方式的磁存儲(chǔ)裝置具備:具有可變的磁化方向的第1磁性層、具有固定的磁化方向的第2磁性層、以及設(shè)置于所述第1磁性層與所述第2磁性層之間的非磁性層,所述第1磁性層包含多晶態(tài)的第1子磁性層和非晶態(tài)的第2子磁性層。
附圖說明
圖1是將實(shí)施方式所涉及的磁存儲(chǔ)裝置中的磁阻效應(yīng)元件的基本結(jié)構(gòu)示意性地示出的截面圖。
圖2是將實(shí)施方式所涉及的磁存儲(chǔ)裝置中的第1磁性層的第1結(jié)構(gòu)例示意性地示出的截面圖。
圖3是將實(shí)施方式所涉及的磁存儲(chǔ)裝置中的第1磁性層的第2結(jié)構(gòu)例示意性地示出的截面圖。
圖4是將實(shí)施方式所涉及的磁存儲(chǔ)裝置中的第1磁性層的第3結(jié)構(gòu)例示意性地示出的截面圖。
圖5是將實(shí)施方式所涉及的磁存儲(chǔ)裝置中的第1磁性層的第4結(jié)構(gòu)例示意性地示出的截面圖。
圖6是將實(shí)施方式所涉及的磁存儲(chǔ)裝置中的第1磁性層的第5結(jié)構(gòu)例示意性地示出的截面圖。
具體實(shí)施方式
以下,參照附圖對(duì)實(shí)施方式進(jìn)行說明。
圖1是將實(shí)施方式所涉及的磁存儲(chǔ)裝置中的磁阻效應(yīng)元件的基本結(jié)構(gòu)示意性地示出的截面圖。應(yīng)予說明,磁阻效應(yīng)元件也被稱為MTJ(magnetic tunnel junction,磁隧道結(jié))元件。
圖1所示的磁阻效應(yīng)元件是具有垂直磁化(perpendicular magnetization)的STT(spin transfer torque,自旋轉(zhuǎn)移矩)型的磁阻效應(yīng)元件,包括:第1磁性層10、第2磁性層20、夾于第1磁性層10與第2磁性層20之間的非磁性層(nonmagnetic layer)30、第3磁性層40、襯底層(under layer)50以及蓋層(cap layer)60。
圖1所示的磁阻效應(yīng)元件,從制備器件的基板側(cè)起依次層疊(stack)有第1磁性層10、非磁性層30以及第2磁性層20。將具有這樣的層疊結(jié)構(gòu)的磁阻效應(yīng)元件稱為底部存儲(chǔ)層型磁阻效應(yīng)元件。如下所述,第1磁性層10這樣的磁化方向(magnetization direction)可變的磁性層被稱為存儲(chǔ)層(storage layer),第2磁性層20這樣的具有固定的磁化方向的磁性層被稱為參考層(reference layer)。相反地,具有從基板側(cè)起依次層疊有第2磁性層20、非磁性層30和第1磁性層10的結(jié)構(gòu)的磁阻效應(yīng)元件被稱為頂部存儲(chǔ)層型磁阻效應(yīng)元件。本實(shí)施方式的磁阻效應(yīng)元件并不局限于圖1所示的底部存儲(chǔ)層型磁阻效應(yīng)元件,也能夠應(yīng)用于頂部存儲(chǔ)層型磁阻效應(yīng)元件。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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