[發(fā)明專利]石墨盤檢測方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910060012.6 | 申請日: | 2019-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN109870416B | 公開(公告)日: | 2021-10-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 喬楠;李昱樺;劉旺平;胡加輝;李鵬 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(浙江)有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/25 | 分類號: | G01N21/25;G01N21/95;G01N29/04;C23C16/44;B07C5/38;B07C5/36;B07C5/34 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨 檢測 方法 裝置 | ||
1.一種石墨盤檢測方法,其特征在于,所述方法包括:
拍攝石墨盤的表面,得到所述石墨盤的表面圖像,所述石墨盤的表面是所述石墨盤用來承載外延片的一面;
根據(jù)所述石墨盤的表面圖像判斷所述石墨盤的表面是否存在破損;
當所述石墨盤的表面不存在破損時,根據(jù)所述石墨盤的表面圖像判斷所述石墨盤的表面是否存在色差;
當所述石墨盤的表面不存在色差時,對所述石墨盤進行超聲波掃描,得到所述石墨盤的反射率;
根據(jù)所述石墨盤的反射率對所述石墨盤進行分類,同一外延生長設備采用同一類所述石墨盤進行外延生長。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述拍攝石墨盤的表面,得到所述石墨盤的表面圖像,包括:
將所述石墨盤的表面分為多個區(qū)域;
依次拍攝所述石墨盤的表面的多個區(qū)域,得到多張所述石墨盤的表面圖像。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述石墨盤的表面圖像判斷所述石墨盤的表面是否存在破損,包括:
顯示所述石墨盤的表面圖像;接收人工操作指令,所述人工操作指令用于指示所述石墨盤的表面是否存在破損;
或者,所述根據(jù)所述石墨盤的表面圖像判斷所述石墨盤的表面是否存在破損,包括:
將所述石墨盤的表面圖像輸入預定的分類器,根據(jù)所述分類器的結(jié)果確定所述石墨盤的表面是否存在破損。
4.根據(jù)權利要求1-3任一項所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述石墨盤的表面圖像判斷所述石墨盤的表面是否存在色差,包括:
將所述石墨盤的表面圖像分為多個區(qū)域;
計算每個區(qū)域的平均灰階值;
計算任意兩個相鄰區(qū)域的平均灰階值的差值;
當存在任意兩個相鄰區(qū)域的平均灰階值的差值大于閾值時,確定所述石墨盤的表面存在色差。
5.根據(jù)權利要求1-3任一項所述的方法,其特征在于,所述對所述石墨盤進行超聲波掃描,得到所述石墨盤的反射率,包括:
發(fā)射超聲波;
接收經(jīng)過所述石墨盤反射回的超聲波;
根據(jù)發(fā)射的超聲波的強度和反射回的超聲波的強度,確定所述石墨盤的反射率。
6.一種石墨盤檢測裝置,其特征在于,所述裝置包括:
拍攝模塊,用于拍攝石墨盤的表面,得到所述石墨盤的表面圖像,所述石墨盤的表面是所述石墨盤用來承載外延片的一面;
第一判斷模塊,用于根據(jù)所述石墨盤的表面圖像判斷所述石墨盤的表面是否存在破損;
第二判斷模塊,用于當所述石墨盤的表面不存在破損時,根據(jù)所述石墨盤的表面圖像判斷所述石墨盤的表面是否存在色差;
掃描模塊,用于當所述石墨盤的表面不存在色差時,對所述石墨盤進行超聲波掃描,得到所述石墨盤的反射率;
分類模塊,用于根據(jù)所述石墨盤的反射率對所述石墨盤進行分類,同一外延生長設備采用同一類所述石墨盤進行外延生長。
7.根據(jù)權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述拍攝模塊,用于將所述石墨盤的表面分為多個區(qū)域;依次拍攝所述石墨盤的表面的多個區(qū)域,得到多張所述石墨盤的表面圖像。
8.根據(jù)權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述第一判斷模塊,用于顯示所述石墨盤的表面圖像;接收人工操作指令,所述人工操作指令用于指示所述石墨盤的表面是否存在破損;或者,將所述石墨盤的表面圖像輸入預定的分類器,根據(jù)所述分類器的結(jié)果確定所述石墨盤的表面是否存在破損。
9.根據(jù)權利要求6-8任一項所述的裝置,其特征在于,所述第二判斷模塊,用于將所述石墨盤的表面圖像分為多個區(qū)域;計算每個區(qū)域的平均灰階值;計算任意兩個相鄰區(qū)域的平均灰階值的差值;當存在任意兩個相鄰區(qū)域的平均灰階值的差值大于閾值時,確定所述石墨盤的表面存在色差。
10.根據(jù)權利要求6-8任一項所述的裝置,其特征在于,所述掃描模塊,用于發(fā)射超聲波;接收經(jīng)過所述石墨盤反射回的超聲波;根據(jù)發(fā)射的超聲波的強度和反射回的超聲波的強度,確定所述石墨盤的反射率。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華燦光電(浙江)有限公司,未經(jīng)華燦光電(浙江)有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910060012.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類





