[發明專利]共用氣穴的公端基座

有效

• 申請號: 201910049563.2
• 申請日: 2019-01-18
• 公開（公告）號: CN109546387B
• 公開（公告）日: 2023-10-10
• 發明（設計）人: 趙鵬;代秀云;何洪;張洺誠;邱雪梅
• 申請（專利權）人: 四川華豐科技股份有限公司
• 主分類號: H01R12/71
• 分類號: H01R12/71;H01R13/502;H01R13/6461
• 代理公司: 成都市鼎宏恒業知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 51248
• 代理人: 王德偉

1.共用氣穴的公端基座，其特征在于：它包括殼體（1），所述殼體（1）的底部為基底（2），所述基底（2）上開設有若干插針插孔（3），所述插針插孔（3）呈列分布，且所述插針插孔（3）包括接地插孔（31）和差分對插針插孔（32），同一列中的所述接地插孔（31）將每組所述差分對插針插孔（32）隔開，所述基底（2）上開設有多個氣穴（4），所述氣穴（4）為盲孔，且所述氣穴（4）也呈列分布，所述氣穴（4）所在的列位于相鄰所述插針插孔（3）所在的列之間，且兩相鄰列中鄰近的差分對插針插孔（32）之間在行方向的連線與所述氣穴（4）相交。

2.根據權利要求1所述的共用氣穴的公端基座，其特征在于：每組所述差分對插針插孔（32）正對一個所述氣穴（4）。

3.根據權利要求2所述的共用氣穴的公端基座，其特征在于：相鄰列上的所述接地插孔（31）和所述差分對插針插孔（32）均交錯設置。

4.根據權利要求3所述的共用氣穴的公端基座，其特征在于：所述氣穴（4）所在的列位于相鄰所述插針插孔（3）所在列之間的中心線上。

5.根據權利要求1~4任意一項所述的共用氣穴的公端基座，其特征在于：所述基底（2）的底部開設有若干條形槽（6），且所述條形槽（6）位于相鄰所述插針插孔（3）所在列之前的中心線上。

6.根據權利要求5所述的共用氣穴的公端基座，其特征在于：所述條形槽（6）上設置有多個加強柱（5），所述加強柱（5）的底面不凸出所述殼體（1）的底面。

7.根據權利要求6所述的共用氣穴的公端基座，其特征在于：所述加強柱（5）呈行分布，且每一行上的加強柱（5）的個數相同。