[發明專利]掩膜板及其制作方法在審
| 申請號: | 201910043930.8 | 申請日: | 2019-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN109628881A | 公開(公告)日: | 2019-04-16 |
| 發明(設計)人: | 袁鵬程;翟中遠;王永茂;曾望明;張文暢 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 劉偉;張博 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜板 蒸鍍 遮擋 表面設置 導流槽 開口部 制作 清洗 殘留 | ||
本發明提供了一種掩膜板及其制作方法,屬于顯示技術領域。其中,蒸鍍掩膜板,包括:開口部,對應于至少一個待蒸鍍區域;遮擋部,對應于所述待蒸鍍區域之外的非蒸鍍區域;所述遮擋部的表面設置有導流槽。本發明的技術方案能夠防止掩膜板在清洗后殘留藥液。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,特別是指一種掩膜板及其制作方法。
背景技術
在OLED顯示基板的制作過程中,需要利用蒸鍍掩膜板蒸鍍有機發光層以及公共層,在OLED顯示基板應用于顯示裝置時,顯示裝置上往往需要預留區域以設置攝像頭、傳感器等元件,在蒸鍍掩膜板上設置有遮擋部對該預留區域進行遮擋,在利用蒸鍍掩膜板蒸鍍完后,需要對蒸鍍掩膜板進行清洗,但清洗后容易在遮擋部殘留有清洗用藥液,殘留的藥液會對蒸鍍腔室的真空度產生影響,對下一次蒸鍍產生影響,并且對于蒸鍍掩膜板的防銹處理也是極為不利的。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種掩膜板及其制作方法,能夠防止掩膜板在清洗后殘留藥液。
為解決上述技術問題,本發明的實施例提供技術方案如下:
一方面,提供一種蒸鍍掩膜板,包括:
開口部,對應于至少一個待蒸鍍區域;
遮擋部,對應于所述待蒸鍍區域之外的非蒸鍍區域;
所述遮擋部的表面設置有導流槽。
進一步地,所述導流槽的深度為所述蒸鍍掩膜板的厚度的30%-50%。
進一步地,所述遮擋部的長度方向為第一方向,所述導流槽包括至少一個延伸方向與所述第一方向平行的第一導流槽。
進一步地,所述第一導流槽延伸至所述遮擋部的邊緣。
進一步地,所述遮擋部的寬度方向為第二方向,所述導流槽包括至少一個延伸方向與所述第二方向平行的第二導流槽。
進一步地,所述第二導流槽延伸至所述遮擋部的邊緣。
本發明實施例還提供了一種蒸鍍設備,包括如上所述的蒸鍍掩膜板。
本發明實施例還提供了一種蒸鍍掩膜板的制作方法,所述蒸鍍掩膜板包括:開口部,對應于至少一個待蒸鍍區域;遮擋部,對應于所述待蒸鍍區域之外的非蒸鍍區域,所述制作方法包括:
在所述遮擋部的表面形成導流槽。
進一步地,所述遮擋部的長度方向為第一方向,所述在所述遮擋部的表面形成導流槽包括:
形成至少一個延伸方向與所述第一方向平行的第一導流槽。
進一步地,所述遮擋部的寬度方向為第二方向,所述在所述遮擋部的表面形成導流槽包括:
形成至少一個延伸方向與所述第二方向平行的第二導流槽。
本發明的實施例具有以下有益效果:
上述方案中,遮擋部的表面設置有導流槽,這樣在對遮擋部進行清洗后,利用風刀對蒸鍍掩膜板進行干燥時,導流槽的設置有利于清洗用藥液的排走,從而減少殘留在蒸鍍掩膜板上的藥液量,避免對蒸鍍和蒸鍍掩膜板的防銹處理產生影響。
附圖說明
圖1為本發明實施例蒸鍍掩膜板的俯視示意圖;
圖2為本發明實施例蒸鍍掩膜板的截面示意圖。
附圖標記
1 蒸鍍掩膜板
2 開口部
3 遮擋部
4 導流槽
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910043930.8/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





