[發(fā)明專利]掩膜板及其制作方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910043930.8
• 申請日: 2019-01-17
• 公開（公告）號: CN109628881A
• 公開（公告）日: 2019-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 袁鵬程;翟中遠(yuǎn);王永茂;曾望明;張文暢
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 劉偉;張博

1.一種蒸鍍掩膜板，包括：

開口部，對應(yīng)于至少一個待蒸鍍區(qū)域；

遮擋部，對應(yīng)于所述待蒸鍍區(qū)域之外的非蒸鍍區(qū)域；

其特征在于，所述遮擋部的表面設(shè)置有導(dǎo)流槽。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，

所述導(dǎo)流槽的深度為所述蒸鍍掩膜板的厚度的30％-50％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述遮擋部的長度方向為第一方向，所述導(dǎo)流槽包括至少一個延伸方向與所述第一方向平行的第一導(dǎo)流槽。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述第一導(dǎo)流槽延伸至所述遮擋部的邊緣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述遮擋部的寬度方向為第二方向，所述導(dǎo)流槽包括至少一個延伸方向與所述第二方向平行的第二導(dǎo)流槽。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述第二導(dǎo)流槽延伸至所述遮擋部的邊緣。

7.一種蒸鍍設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-6中任一項所述的蒸鍍掩膜板。

8.一種蒸鍍掩膜板的制作方法，所述蒸鍍掩膜板包括：開口部，對應(yīng)于至少一個待蒸鍍區(qū)域；遮擋部，對應(yīng)于所述待蒸鍍區(qū)域之外的非蒸鍍區(qū)域，其特征在于，所述制作方法包括：

在所述遮擋部的表面形成導(dǎo)流槽。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蒸鍍掩膜板的制作方法，其特征在于，所述遮擋部的長度方向為第一方向，所述在所述遮擋部的表面形成導(dǎo)流槽包括：

形成至少一個延伸方向與所述第一方向平行的第一導(dǎo)流槽。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蒸鍍掩膜板的制作方法，其特征在于，所述遮擋部的寬度方向為第二方向，所述在所述遮擋部的表面形成導(dǎo)流槽包括：

形成至少一個延伸方向與所述第二方向平行的第二導(dǎo)流槽。